[发明专利]高纯度二氧化硅的制备方法在审
申请号: | 201611188310.6 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN108203096A | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 青岛祥智电子技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266100 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高纯度二氧化硅 氟硅酸铵 高纯度 制备 氨水 二氧化硅沉淀 二氧化硅粉体 四氟化硅气体 操作工艺 固液分离 生产过程 四氟化硅 无污染物 原料成本 蒸发结晶 氟化铵 硅藻土 热分解 粉体 高纯 洗涤 沉淀 过滤 | ||
1.一种高纯度二氧化硅的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
1)硅藻土和氟化铵水溶液在80~90℃下反应生成氟硅酸铵溶液和氨气,所述氟硅酸铵溶液经过滤和高速离心后除去杂质,实现初步提纯;所述氨气经纯水吸收,制成高纯氨水;
2)将初步提纯后的氟硅酸铵溶液经过多次蒸发结晶,通过固液分离进行二次提纯,然后通过洗涤得到高纯度氟硅酸铵固体;
3)将所述高纯度氟硅酸铵固体加热到100~150℃,使其分解生成四氟化硅气体和氟化铵气体;
4)将所述四氟化硅和氟化铵气体导入到反应设备中,使其与高纯氨水进行氨解反应,生成二氧化硅沉淀;
5)将所述二氧化硅沉淀通过高速离心脱水、洗涤和真空干燥,得到纯度大于6N的高纯度二氧化硅粉体。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤2)中,将所述提纯后的氟硅酸铵溶液放入三效蒸发结晶器中,经过三次蒸发结晶实现固液分离。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤3)中,将所述高纯度氟硅酸铵固体放入热分解反应器中加热分解。
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