[发明专利]有机发光器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201611188951.1 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106784401A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 徐湘伦;赵梦 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰,武岑飞
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 器件 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种有机发光器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:

在衬底基材上制作底电极;

利用蒸镀技术以及光刻技术在所述底电极上制作有机电致发光组件;

在所述有机电致发光组件上制作顶电极。

2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,利用蒸镀技术以及光刻技术在所述底电极上制作有机电致发光组件的方法包括步骤:

在所述底电极上蒸镀空穴注入层;

按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出不同颜色光线的发光层各自对应的空穴传输层;

在所述空穴传输层上蒸镀对应的发光层;

在所述发光层上蒸镀电子传输层;

在所述电子传输层上蒸镀电子注入层。

3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述能够发出不同颜色的发光层包括:能够发出红色光线的第一发光层、能够发出绿色光线的第二发光层以及能够发出蓝色光线的第三发光层。

4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出红色光线的第一发光层对应的空穴传输层的方法包括步骤:

按所述第一发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度在所述空穴注入层上蒸镀有机材料层;

在有机材料层上涂布覆盖光阻层;

利用第一曝光光罩对所述光阻层进行曝光;所述第一曝光光罩相对于所述第一发光层的部分透光,其余部分不透光;

对经曝光后的光阻层进行显影,以将未被光照的光阻层去除;

将未被光阻层覆盖的有机材料层刻蚀去除;

将被光照的光阻层剥离,从而形成所述第一发光层对应的空穴传输层。

5.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出绿色光线的第二发光层对应的空穴传输层的方法包括步骤:

按所述第二发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度在所述空穴注入层上蒸镀有机材料层;

在有机材料层上涂布覆盖光阻层;

利用第二曝光光罩对所述光阻层进行曝光;所述第二曝光光罩相对于所述第二发光层的部分透光,其余部分不透光;

对经曝光后的光阻层进行显影,以将未被光照的光阻层去除;

将未被光阻层覆盖的有机材料层刻蚀去除;

将被光照的光阻层剥离,从而形成所述第二发光层对应的空穴传输层。

6.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出绿色光线的第三发光层对应的空穴传输层的方法包括步骤:

按所述第三发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度在所述空穴注入层上蒸镀有机材料层;

在有机材料层上涂布覆盖光阻层;

利用第三曝光光罩对所述光阻层进行曝光;所述第三曝光光罩相对于所述第三发光层的部分透光,其余部分不透光;

对经曝光后的光阻层进行显影,以将未被光照的光阻层去除;

将未被光阻层覆盖的有机材料层刻蚀去除;

将被光照的光阻层剥离,从而形成所述第三发光层对应的空穴传输层。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的制作方法,其特征在于,所述光阻层采用负光阻材料制作。

8.根据权利要求3至6中任一项所述的制作方法,其特征在于,所述第三发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度大于所述第二发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度,并且所述第二发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度大于所述第一发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度。

9.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述底电极和所述顶点极中的一个是透明的或半透明的,另一个是不透明且反射光的。

10.一种利用权利要求1至9中任一项所述的制作方法制作的有机发光器件。

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