[发明专利]有机发光器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201611188951.1 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106784401A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 徐湘伦;赵梦 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰,武岑飞
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 器件 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明属于有机电致发光技术领域,具体地讲,涉及一种有机发光器件及其制作方法。

背景技术

近年来,有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)成为国内外非常热门的新兴平面显示器产品,这是因为OLED显示器具有自发光、广视角(达175°以上)、短反应时间(1μs)、高发光效率、广色域、低工作电压(3~10V)、薄厚度(可小于1mm)、可制作大尺寸与可挠曲的面板及制程简单等特性,而且它还具有低成本的潜力。

目前,有机发光二极管由具有不同功能的多层结构组成。每层结构所采用材料的固有属性及其与其他层结构所采用材料的兼容性是非常重要的。在多层结构中,通常包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)以及电子注入层(EIL)等。在基于红、绿、蓝三色的彩色有机发光二极管(multi-color OLED)中,可以调节不同层结构的厚度来调节OLED元器件的微腔效应,达到提高出光效率和调节每种颜色光的谱宽(spectral width)窄化的作用。例如,可以通过调节红、绿、蓝三种颜色发光层对应的空穴传输层的厚度来调整三种颜色发光层出射光的谱宽,达到平衡颜色的效果。在这种设计中,空穴传输层就不能够作为公共层(common layer)来蒸镀,需要增加使用精细金属掩膜版(Fine metal mask)。这样不仅增加了流程工艺的时间,而且由于金属掩膜板清洗方面的问题,大大增加了有机发光二极管的成本。此外,由于精细金属掩膜版使用中存在对准的问题(alignment issue),会大大降低有机发光二极管的制作成功率。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的问题,本发明的目的在于提供一种能够省去使用精细金属掩膜版的有机发光器件及其制作方法。

根据本发明的一方面,提供了一种有机发光器件的制作方法,其包括步骤:在衬底基材上制作底电极;利用蒸镀技术以及光刻技术在所述底电极上制作有机电致发光组件;在所述有机电致发光组件上制作顶电极。

可选地,利用蒸镀技术以及光刻技术在所述底电极上制作有机电致发光组件的方法包括步骤:在所述底电极上蒸镀空穴注入层;按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出不同颜色光线的发光层各自对应的空穴传输层;在所述空穴传输层上蒸镀对应的发光层;在所述发光层上蒸镀电子传输层;在所述电子传输层上蒸镀电子注入层。

可选地,所述能够发出不同颜色的发光层包括:能够发出红色光线的第一发光层、能够发出绿色光线的第二发光层以及能够发出蓝色光线的第三发光层。

可选地,按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出红色光线的第一发光层对应的空穴传输层的方法包括步骤:按所述第一发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度在所述空穴注入层上蒸镀有机材料层;在有机材料层上涂布覆盖光阻层;利用第一曝光光罩对所述光阻层进行曝光;所述第一曝光光罩相对于所述第一发光层的部分透光,其余部分不透光;对经曝光后的光阻层进行显影,以将未被光照的光阻层去除;将未被光阻层覆盖的有机材料层刻蚀去除;将被光照的光阻层剥离,从而形成所述第一发光层对应的空穴传输层。

可选地,按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出绿色光线的第二发光层对应的空穴传输层的方法包括步骤:按所述第二发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度在所述空穴注入层上蒸镀有机材料层;在有机材料层上涂布覆盖光阻层;利用第二曝光光罩对所述光阻层进行曝光;所述第二曝光光罩相对于所述第二发光层的部分透光,其余部分不透光;对经曝光后的光阻层进行显影,以将未被光照的光阻层去除;将未被光阻层覆盖的有机材料层刻蚀去除;将被光照的光阻层剥离,从而形成所述第二发光层对应的空穴传输层。

可选地,按共振模态所需厚度在所述空穴注入层上利用光刻技术制作能够发出绿色光线的第三发光层对应的空穴传输层的方法包括步骤:按所述第三发光层对应的空穴传输层共振模态所需厚度在所述空穴注入层上蒸镀有机材料层;在有机材料层上涂布覆盖光阻层;利用第三曝光光罩对所述光阻层进行曝光;所述第三曝光光罩相对于所述第三发光层的部分透光,其余部分不透光;对经曝光后的光阻层进行显影,以将未被光照的光阻层去除;将未被光阻层覆盖的有机材料层刻蚀去除;将被光照的光阻层剥离,从而形成所述第三发光层对应的空穴传输层。

可选地,所述光阻层采用负光阻材料制作。

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