[发明专利]一种正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板及其制备工艺

权利要求书

1.一种正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板，其特征在于，复合陶瓷超薄盖板的陶瓷粉体为纳米粉体和微米粉体形成的跨尺度无规则的混合体，所述纳米粉体占所述陶瓷粉体体积的40～70%；所述纳米粉体的粒径为0.05～0.5 μm；所述微米粉体的中位径为1～5 μm，所述纳米粉体为正方氧化锆。

2.根据权利要求1所述的正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板，其特征在于，所述微米粉体为氧化锆、氧化铝、氮化铝陶瓷粉体中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板，其特征在于，所述正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板厚度小于150μm。

4.一种根据权利要求1-3任一项所述的正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板的制备工艺，其特征在于，包括以下工艺步骤：

（1）按比例称取纳米正方氧化锆粉体和微米粉体，加入适量的溶剂、分散剂充分混合均匀后，球磨12～24h；

（2）将粘接剂、增塑剂再加入步骤（1）所得混合料中，继续球磨2～6h；然后加入除泡剂，在真空搅拌罐中进行除泡20～50min，得到2000-10000 mPa.s的陶瓷流延浆料；

（3）将步骤（2）所得的陶瓷浆料在流延机上流延成型，制备出超薄陶瓷生带；

(4) 将干燥后的超薄陶瓷生带裁切成陶瓷坯片，并装入烧结钵盒，在1300～1500℃下烧结2～4h，即可得到正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板。

5.根据权利要求4所述的正方氧化锆基复合陶瓷超薄盖板的制备工艺，其特征在于，所述陶瓷粉体质量占陶瓷浆料总质量的63%以上。