[发明专利]掩膜板自动清洗系统及方法在审
申请号: | 201611193376.4 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN106773528A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 祖伟 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司44202 | 代理人: | 郝传鑫,熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜板 自动 清洗 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及自动化领域,尤其涉及一种掩膜板自动清洗系统及方法。
背景技术
在现有的彩膜基板制程工艺中,通常通过曝光机实现彩膜的图案化,而使用最多的是接近式曝光机。此种曝光机的掩膜板与被曝光基板之间的距离在100-400μm之间,如此微小的距离造成掩膜板极易被曝光基板上的附着异物污染,或者由于长时间曝光被光阻胶曝光时的挥发物污染,而一旦掩膜板被污染,将造成共通缺陷,严重影响产品质量,甚至造成产品NG。
针对上述问题,现今业内普遍采取的措施是在掩膜板被使用前使用掩膜板清洗机提前清洗,以及当掩膜板每被使用曝光3000张左右基板时,也要使用掩膜板清洗机清洗掩膜板,以防止掩膜板被污染而造成品质不良。
然而,现在业内普遍采用人工管理的方式控制对掩膜板的清洗,即在每次掩膜板被使用前由作业员调出需要使用的掩膜板进行清洗;以及由作业员定时点检曝光机使用中的每块掩膜板曝光的次数,当使用次数达到3000次左右时,由相应人员将掩膜板从曝光机内取出拉到掩膜板清洗机处清洗。显然,此种由人工管理的方法不仅会耗费了大量人力,还很容易由于人员管理的疏忽而造成掩膜板被漏洗的情况发生,一旦发生掩膜板被漏洗的情况,很容易造成共通缺陷或共同Mura,然而此种情况将会引起工厂比较大的产品与产能损耗。同时,由于掩膜板每次被使用前需要由人为调出需要使用的掩膜板并选择相应的设置进行清洗,这种情况下一旦人员未及时清洗掩膜板,也会造成产线生产不能及时开始,严重浪费产能。
发明内容
本发明实施例提供一种掩膜板自动清洗系统及方法,其可提前清洗待使用的掩膜板,以及根据掩膜板的使用情况发起清洗提醒,以及时对掩膜板进行清洗作业,不仅节省了人力,相较于人工管理的方式更为智能,并且可及时清洁可能影响曝光效果的掩膜板,提升产品良率,进而提升产能。
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜板自动清洗系统,包括:曝光机控制端,与对应的曝光器相连接,用于控制所述曝光机的曝光制程、以及监控曝光机内每一掩膜板的使用次数;清洗装置,用以清洗所述掩膜板;主控装置,连接至所述曝光机控制端与所述清洗装置,并根据每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息控制所述清洗装置提前清洗各曝光机即将使用的掩膜板,并在监测到所述曝光机中的掩膜板的使用次数达到一预设次数时,自动发出掩膜板清洗提醒,以提醒现场操作人员及时进行清洗作业。
其中,所述曝光机控制端还用于将与该曝光机控制端连接的曝光机中即将使用的掩膜板信息发送至所述主控装置,所述主控装置还用于根据所述曝光机控制端发送的掩膜板信息控制所述清洗装置提前清洗所述即将使用的掩膜板。
其中,所述掩膜板自动清洗系统还包括中转器,所述曝光机控制端通过所述中转器与所述主控装置连接,用以建立所述主控装置与所述曝光机控制端之间的通信连接。
其中,所述中转器为一集线器。
其中,所述掩膜板自动清洗系统还包括存储柜和连接至所述主控装置的计时器;所述存储柜,用于存储掩膜板;所述计时器设置于所述存储柜中,用以统计所述存储柜中每一掩膜板的存放时长。
其中,所述存储柜为所述清洗装置附带的存储柜,或者所述存储柜与所述清洗装置分别单独设置。
其中,所述清洗装置包括一分别连接至所述主控装置以及所述计时器的清洗控制端,所述主控装置还用于根据所述计时器的计时值,判断存储柜中是否有掩膜板需要清洗,并在所述存储柜中有掩膜板需要清洗时,通过所述清洗控制端向清洗装置发送清洗指令,所述清洗指令包括待清洗掩膜板的掩膜板信息;所述清洗装置,还用于根据所述指令对相应的掩膜板进行清洗作业。
另一方面,本发明还提供一种应用于上述掩膜板自动清洗系统的掩膜板自动清洗方法,该掩膜板自动清洗方法包括以下步骤:曝光机控制端实时监控曝光机中掩膜板的使用次数;当曝光机中的掩膜板的使用次数达到预设次数时,主控装置自动发出掩膜板清洗提醒,以提醒现场操作人员及时进行清洗作业;所述主控装置还根据接收到的每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息,控制所述清洗装置提前清洗所述即将使用的掩膜板。
其中,所述掩膜板自动清洗方法还包括以下步骤:计时器监控存储柜中各掩膜板的存储时长;当存储时长超过预设时长时,清洗控制端控制所述清洗装置及时清洗所述存储超时的掩膜板。
其中,所述主控装置还根据接收到的每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息,控制所述清洗装置提前清洗所述即将使用的掩膜板这一步骤之前还包括以下步骤:
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