[发明专利]低硅铝比MCM-49分子筛及其制备方法

权利要求书

1.一种低硅铝比MCM-49分子筛，其特征在于，SiO₂/Al₂O₃的摩尔比值为5～15，晶粒尺寸小于等于900nm。

2.根据权利要求1所述的低硅铝比MCM-49分子筛，其特征在于，SiO₂/Al₂O₃的摩尔比值为9～15。

3.根据权利要求1或2所述的低硅铝比MCM-49分子筛，其特征在于，所述低硅铝比MCM-49分子筛比表面积为400-490m²/g。

4.一种低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其是权利要求1～3任一项所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，包括以下步骤：

将硅源，铝源，碱源，模板剂和蒸馏水按摩尔比值计：按照SiO₂/Al₂O₃为5～15，OH^-/SiO₂为0.03-0.3，R/SiO₂为0.07-2，H₂O/SiO₂为10-50的比例混合，形成反应混合物，其中R为模板剂；

以所述反应混合物的干基重量计，向所述反应混合物中加入0.01-1％的MCM-49分子筛活性晶种，陈化搅拌、晶化，晶化后的物料经固液分离，洗涤，干燥，得到MCM-49分子筛。

5.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，所述硅源为硅溶胶和/或水玻璃。

6.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，所述铝源为偏铝酸钠和/或硫酸铝。

7.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，所述碱源为氢氧化钠。

8.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，所述模板剂为六亚甲基亚胺。

9.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，所述硅源，铝源，碱源，模板剂和蒸馏水按摩尔比值计：SiO₂/Al₂O₃为9-15，OH/SiO₂为0.06-0.25，R/SiO₂为0.07-1.2，H₂O/SiO₂为10-45。

10.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，陈化搅拌温度为25℃～45℃，陈化搅拌时间为2h～24h。

11.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，晶化条件为：晶化温度150℃-170℃，晶化时间12-90小时。

12.根据权利要求11所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，晶化条件为：晶化温度为150℃，晶化时间为24-72h。

13.根据权利要求4所述的低硅铝比MCM-49分子筛的制备方法，其特征在于，以所述反应混合物的干基重量计，向所述反应混合物中加入0.02％的MCM-49分子筛活性晶种。