[发明专利]一种具备钛酸钡薄膜的钨镍合金电介质材料的制备方法在审
申请号: | 201611213309.4 | 申请日: | 2016-12-25 |
公开(公告)号: | CN108239717A | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 青岛祥智电子技术有限公司 |
主分类号: | C22C29/08 | 分类号: | C22C29/08;C22C1/05;C22C1/10;C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266100 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 电介质材料 钛酸钡薄膜 介电损耗 钨镍合金 氧空位 硬质合金 孔洞 多层薄膜结构 介电常数 制备过程 薄膜面 漏电流 内压 镍池 细晶 薄膜 迁移 阻碍 | ||
1.一种具备钛酸钡薄膜的钨镍合金电介质材料的制备方法,该方法包括如下步骤:
(1)制备基体
按以下重量组份配制混合粉
碳化钨,90.1%-92.8%,费氏粒度0.8-1μm;
镍粉,5%-6%,费氏粒度0.5-1.0μm;
碳化铬,余量;
将上述配比的混合粉进行湿磨;其中球磨时间分段控制;先将碳化物粉及添加剂碳化铬加入球磨筒湿磨12-16小时,再加入镍粉湿磨14-18小时;
将球磨完毕的混合料料浆干燥;
将干燥混合料压制成所需形状的压制品;
将压制品放在烧结炉内高温烧结,烧结温度为1450-1470℃,保温时间70-90min,烧结压力为4.5-5.0Mpa,获得钨镍合金基体;
(2)基体预处理
所述基体预处理,可依次进行研磨抛光、超声清洗和离子源清洗;
(3)将纳米BaTiO3粉末在1000℃下压制成直径为75mm的BaTiO3靶材;
将BaTiO3靶材依次用无水乙醇、去离子水中分别清洗5min,以将BaTiO3靶材表面的杂质清洁干净,然后再在烘箱中将BaTiO3靶材烘干;
(4)一次溅射
将预处理后的基体固定在磁控溅射设备中内腔室的样品台上,同时在磁控溅射设备中内腔室中固定好BaTiO3靶材,再将磁控溅射设备内腔抽至真空度为10-4Pa;
往设备内通入Ar和O2直至工作压强达到1.2Pa,并设定溅射设备的溅射功率为145W、衬底温度为380-420℃、基体旋转速度为10-20rpm的溅射参数进行第一次溅射;
在第一次溅射过程中,随时检测薄膜的溅射厚度,直至达到设定厚度,溅射完成后,降温到室温后取出样品并放置在样品盒中;
(5)二次溅射
将第一次溅射样品放置在管式炉中,通入保护性气体N2约2min,直至里面的空气被赶出干净,然后将管式炉升温到750℃,升温速度为10℃/min,在750℃恒温加热30min进行热处理,然后降到室温,降温速度为10℃/min;
将完成热处理后的溅射样品进行第二次溅射,第二次溅射参数中的基体温度设置为420-450℃,溅射设备的溅射功率为145W、基体旋转速度为10-20rpm,
第二次溅射完成后将溅射样品放置在管式炉中,通入保护性气体N22min,直至里面的空气被赶出干净,然后将管式炉升温到770℃,升温速度为10℃/min,在770℃恒温加热30min,然后降到室温,降温速度为10℃/min,得具备钛酸钡薄膜的钨镍合金电介质材料成品。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤(2)中,所述研磨抛光,可将基体先在600目的金刚石砂轮盘上进行粗磨10min,然后在1200目的金刚石砂轮盘上进行细磨10min,再用W2.5的金刚石抛光粉进行抛光至试样表面均匀光亮,所述超声清洗,可将研磨抛光后的基体按以下顺序清洗,丙酮超声清洗5min→无水乙醇超声清洗5min→烘干待用,所述离子源清洗,可采用霍尔离子源对基体进行清洗5min,压强为2×10-2Pa,基体温度为300℃,氩气通量为10sccm,偏压为-100V,阴极电流为29.5A,阴极电压为19V,阳极电流为7A,阳极电压为80V,以清除基体表面的吸附气体以及杂质,提高沉积涂层与基体的结合强度以及成膜质量。
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