[发明专利]一种光学高透消影膜及制备方法有效

专利信息
申请号: 201611218142.0 申请日: 2016-12-26
公开(公告)号: CN106597579B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 陆建贤 申请(专利权)人: 宁波大榭开发区综研化学有限公司
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;C09D4/02;C09D4/06;C09D7/61;G06F3/044
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 张一平
地址: 315812 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 高透消影膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光学高透消影膜,其特征在于包括光学透明基膜,所述基膜的第一表面上复合有厚度为1~4μm的加硬层,所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5~2μm的IM层;

其中,所述IM层包括下述质量组成:

其中所述微粒子粒径为0.01-0.3μm,包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌,三者的比例为(10-15):3:2;

所述加硬层包括下述质量组成:

所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成:

丙烯酸酯类树脂 100份

二氧化硅 5~15份

第三溶剂 90~210份;

所述金属氧化物选自氧化锌、氧化钛和氧化硅中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的光学高透消影膜,其特征在于所述丙烯酸酯类选自乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯和己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的光学高透消影膜,其特征在于所述丙烯酸树脂选自二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和/或二季戊四醇六丙烯酸酯。

4.根据权利要求1所述的光学高透消影膜,其特征在于所述丙烯酸酯类树脂选自三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的光学高透消影膜,其特征在于所述IM层的折射率为1.6%-1.85%,IM面硬度≥1H,加硬面硬度≥2H。

6.根据权利要求1至5任一权利要求所述的光学高透消影膜,其特征在于所述基膜为光学PET膜,厚度为25-50μm。

7.根据权利要求6所述的光学高透消影膜,其特征在于所述光引发剂选自为2-羟基2-甲基1-苯基丙酮、二苯基乙酮、二苯甲酮、苯甲酰甲酸甲酯或苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦。

8.根据权利要求7所述的光学高透消影膜,其特征在于所述第一溶剂、所述第二溶剂和第三溶剂均选自丙二醇单甲基醚、甲基乙基酮、甲苯、环己酮和醋酸乙酯中的至少一种。

9.如权利要求1至8任一权利要求所述的光学高透消影膜的制备方法,其特征在于包括下述步骤:

按比例取所述IM层的各组分,混合均匀即得到IM层涂液;

按比例取所述加硬层的各组分,混合均匀即得到加硬层涂液;

在基膜的第一表面上涂覆IM涂液,通过300mj/cm2的UV能量固化0.5~1.5min,即得到复合在基膜上的IM层;

在基膜的第二表面上涂覆上加硬层涂液,通过350mj/cm2的UV能量固化0.5~1.5min,即得到光学高透消影膜。

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