[发明专利]一种光学高透消影膜及制备方法

说明书

本发明涉及到一种光学高透消影膜及制备方法，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：丙烯酸酯类100份，光引发剂0.5‑1.0份，微粒子150‑200份，第一溶剂250‑900份，其中所述微粒子粒径为0.01‑0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10‑15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：丙烯酸酯类加硬树脂涂液100份，光引发剂0.1‑0.5份，三甲基氯硅烷1‑5份，第二溶剂12.5‑50份，所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂100份,二氧化硅5～15份,第三溶剂90～210份。

技术领域

本发明涉及到触控屏用涂膜，特别是涉及一种光学高透消影膜及制备方法。

背景技术

透明导电膜应用于触控屏中，特别是静电容式触控屏，表面呈现的蚀刻纹对于视觉效果影响较大。市场上有通过相应地技术来降低蚀刻纹的可见度。例如通过单面多层高低折射层的叠加来制作导电膜的基膜，即消影膜；或通过双面多层涂覆高低折射层来制作消影膜；但以上技术存在一定问题点：涂层层数较多，太厚重，涂膜成本高，膜易龟裂；且透过率较低，在85％-90％之间。

为了薄型化、轻量化、挠性化等，使用透明膜替代玻璃板，然而透明膜存在如下问题：容易透过水蒸气，易引起电子部件内部的元器件的劣化。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术的现状提供一种轻薄、耐湿热性好的光学高透消影膜。

本发明所要解决的另一个技术问题上针对现有技术的现状提供一种轻薄、耐湿热性好的光学高透消影膜的制备方法。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：该光学高透消影膜，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；

其中，所述IM层包括下述质量组成：

其中所述微粒子粒径为0.01-0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10-15):3:2；

所述加硬层包括下述质量组成：

所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：

丙烯酸酯类树脂 100份

二氧化硅 5～15份

第三溶剂 90-210份

较好的，所述丙烯酸酯类选自乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化乙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯和己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯中的至少一种。

更好地，所述丙烯酸酯类选自二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和/或二季戊四醇六丙烯酸酯。