[发明专利]一种含硅陶瓷涂层的制备方法在审
| 申请号： | 201611223996.8 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108238799A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 王谋华;吴永龙;张文礼;张文发;刘伟华;吴国忠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | C04B35/565 | 分类号： | C04B35/565;C04B35/584 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;邹玲 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 浸渍 聚碳硅烷溶液 不熔化处理 含硅陶瓷 取出 还原性气体气氛 近化学计量比 氮化硅陶瓷 还原性气体 碳化硅涂层 惰性气体 辐照交联 脱碳处理 循环处理 氧化交联 元素组成 烧结 绝缘性 热交联 烘干 可控 炉内 保温 配制 冷却 灵活 | ||
1.一种含硅陶瓷涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
(1)配制聚碳硅烷溶液，将载体浸渍在聚碳硅烷溶液中，浸渍压力0.1-5MPa，浸渍温度25℃-80℃；
(2)取出，烘干，将构件进行不熔化处理，所述不熔化处理为氧化交联、辐照交联或热交联；
(3)将构件置于炉内，在还原性气体气氛下，升温至300-1000℃，保温进行脱碳处理，关闭还原性气体，通入惰性气体，升温至1000-1600℃进行烧结，冷却后取出；
将构件再按步骤(1)～(3)循环处理5-11次，即可。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，配制所述的聚碳硅烷溶液使用的聚碳硅烷的数均分子量为700-4000，分子量分布为1.5-4.0。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的聚碳硅烷溶液的浓度为40％-70％，所述百分比为质量百分比。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，配制所述的聚碳硅烷溶液所用的溶剂为二甲苯、甲苯和四氢呋喃中的任一种。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的载体为石墨、碳纤维、碳化硅纤维2D编织物、碳化硅纤维2.5D编织物和碳化硅纤维3D编织物中的一种或多种。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述的还原性气体气氛为还原性气体与惰性气体形成的混合气氛。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述的混合气氛中还原性气体与惰性气体的体积比为2:1；所述的还原性气体为H2或NH3；所述的惰性气体为氩气或氮气。
8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，升温至300-1000℃时的升温速率为2～5℃/min；
步骤(3)中，所述脱碳处理的时间为0-10h。
9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述脱碳处理的时间为2h。
10.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，当制备碳化硅涂层时，所述的还原性气体气氛为由H2和惰性气体形成的混合气氛；当制备氮化硅陶瓷涂层时，所述的还原性气体为NH3，所述的惰性气体为氮气。
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