[发明专利]一种氧化铈晶体的制备方法及其在化学机械抛光液中的应用在审
| 申请号： | 201611231261.X | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108249468A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 尹先升;贾长征 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 氧化铈晶体 化学机械抛光液 有机酸溶液 碳酸铈 铈源 碳酸盐 碳酸盐水溶液 平坦化抛光 浅沟槽隔离 水溶液混合 碳酸盐溶液 产物结晶 沉淀反应 纯水溶解 高温焙烧 搅拌条件 研磨颗粒 抛光 有机酸 稀释 铈盐 应用 | ||
1.一种氧化铈晶体的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：
步骤一：分别于有机酸、铈盐和碳酸盐中加入超纯水溶解、稀释，得到有机酸溶液、铈源水溶液、碳酸盐水溶液；
步骤二：将所述有机酸溶液和所述铈源水溶液混合搅拌，并在搅拌条件下，加入所述碳酸盐溶液，通过沉淀反应获得碳酸铈沉淀物；
步骤三：收集所述碳酸铈沉淀物，高温焙烧，获得氧化铈晶体。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤一中，所述铈盐包含硝酸铈、氯化铈、醋酸铈中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述铈源水溶液的摩尔浓度为0.05M～1.0M。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机酸为柠檬酸、抗坏血酸中一种或多种。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机酸溶液的摩尔浓度为0.075M～1.25M。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述碳酸盐为碱金属碳酸盐。
7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碳酸盐为碳酸氢钠。
8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碳酸盐水溶液的摩尔浓度为0.05M～1.0M。
9.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤二中，沉淀反应的反应温度范围为60℃-100℃。
10.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤二中，当沉淀反应体系的pH值达到7.5时，反应结束。
11.如权利要求1-10任一所述的制备方法，其特征在于，所述沉淀反应结束后，保持所述反应温度的条件下，继续搅拌1.0-24小时。
12.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤三中，焙烧温度范围为400-900℃。
13.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤三中，焙烧时间范围为0.5-10小时。
14.一种如权利要求1-13的制备方法所制备的氧化铈在化学机械抛光液中的应用，其特征在于，所述氧化铈于应用前经过分散处理。
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