[发明专利]一种碲化镉薄膜太阳能电池和制备方法在审
申请号: | 201611235986.6 | 申请日: | 2016-12-28 |
公开(公告)号: | CN107039554A | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 马立云;彭寿;潘锦功;殷新建;蒋猛 | 申请(专利权)人: | 成都中建材光电材料有限公司 |
主分类号: | H01L31/056 | 分类号: | H01L31/056;H01L31/0224;H01L31/0296;H01L31/18 |
代理公司: | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙)51237 | 代理人: | 李华,温黎娟 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碲化镉 薄膜 太阳能电池 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及领域太阳能电池技术领域,具体涉及一种碲化镉薄膜太阳能电池和制备方法。
背景技术
在社会、环境、能源和可持续性发展等要求的推动下,新能源的推广应用已成为全球共识。而太阳能作为新能源中最主要的可再生能源,在未来发展中占有重要地位。薄膜太阳电池主要包括非晶硅、碲化镉、铜铟镓硒以及染料敏化等多种类型,其由于消耗材料少,具有所共识的很大的降低成本空间,受到世界各国的越来越多的关注。
其中,碲化镉(CdTe)薄膜太阳电池,其结构主体由的光吸收层CdTe层与窗口层CdS层形成,吸光效率系数>105cm-1,可吸收90%以上的光,转换效率以在8%以上,是新一代高效、低成本、可大规模工业化生产的太阳电池。而目前常用的碲化镉(CdTe)薄膜太阳电池CdTe层厚度为3微米到8微米,元素Te是稀有元素,材料稀少且价格昂贵,造成碲化镉(CdTe)薄膜太阳电池生产成本高,成为限制其发展的一大因素。
发明内容
有鉴于此,本申请提供了一种碲化镉薄膜太阳能电池和制备方法,所述电池在保证太阳光的吸收效率的基础上,减小光吸收层的厚度,降低Te原料的消耗,降低生产成本,批量生长可行性高。
为解决以上技术问题,本发明提供的技术方案是一种碲化镉薄膜太阳能电池,包括衬底,所述衬底上设置有叠层薄膜,所述叠层薄膜由下往上依次包括透明导电膜、窗口层、光吸收层、背接触层、背反射层和背电极层;所述窗口层为硫化镉薄膜层,所述光吸收层为碲化镉薄膜层,所述背接触层为硫氰酸亚铜薄膜层,所述背反射层为银薄膜层。
优选的,所述衬底为玻璃或高分子聚合物。
优选的,所述高分子聚合物为聚酰亚胺。
优选的,所述透明导电膜为TCO薄膜。
优选的,所述背电极层包括镍薄膜层和铬薄膜层。
优选的,所述窗口层厚度为10nm~200nm。
优选的,所述光吸收层厚度为50nm~2000nm。
优选的,所述光吸收层厚度为500nm~2000nm。
优选的,所述光吸收层厚度为500nm。
优选的,所述背接触层厚度为5nm~100nm。
优选的,所述背接触层厚度为20nm。
优选的,所述背反射层厚度为30nm~800nm。
优选的,所述背反射层厚度为80nm~800nm。
优选的,所述背反射层厚度为80nm
优选的,所述叠层薄膜还包括封装材料层和背板,所述封装材料层和所述背板依次设置于所述背电极层上。
优选的,所述背板为玻璃。
本发明还提供了一种碲化镉薄膜太阳能电池的制作方法,包括:衬底上由下往上依次沉积透明导电膜、窗口层、光吸收层、背接触层、背反射层和背电极层;所述窗口层为硫化镉薄膜层,所述光吸收层为碲化镉薄膜层,所述背接触层为硫氰酸亚铜薄膜层,所述背反射层为银薄膜层。
优选的,采用溅射法或近空间升华法沉积所述窗口层。
优选的,采用近空间升华法或气象运输沉积所述光吸收层。
优选的,采用热蒸发沉积所述背接触层。
优选的,所述热蒸发沉积蒸发源温度为300~1000℃,蒸发压力为10~1000pa。
优选的,所述热蒸发沉积蒸发源温度为800℃。
优选的,蒸发压力为300pa。
优选的,采用溅射法沉积所述背反射层。
优选的,所述制作方法还包括进行封装。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都中建材光电材料有限公司,未经成都中建材光电材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611235986.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的