[发明专利]一种掩膜及包含该掩膜的设备在审
申请号: | 201611241237.4 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106842813A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 王松;张瑞军;李培宏 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/50 | 分类号: | G03F1/50;G03F7/20;G02F1/13 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 吴大建 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 包含 设备 | ||
1.一种掩膜,包括X偏光片、Y偏光片,所述X偏光片的偏振方向与所述Y偏光片的偏振方向相互垂直,所述X偏光片设置在X平面内,所述Y偏光片设置在Y平面内,所述X平面与所述Y平面平行设置,
所述X偏光片在所述X平面内沿X向设置,所述Y偏光片在所述Y平面内沿Y向设置,所述X向与所述Y向之间的夹角大于0度,
所述X平面或所述Y平面的法线方向定义为Z向,沿所述Z向方向观测,所述X偏光片与所述Y偏光片交叠设置,所述X偏光片与所述Y偏光片的交叠区域形成第一交叠区域,所述第一交叠区域阻挡光线透过,
所述第一交叠区域之外的区域允许光线透过。
2.根据权利要求1所述的掩膜,其特征在于,所述X偏光片呈长方形,所述Y偏光片呈长方形。
3.根据权利要求2所述的掩膜,其特征在于,所述X向与所述Y向之间的夹角呈90度,
沿所述Z向观测,所述第一交叠区域沿X向的宽度等于所述Y偏光片在X向的宽度,所述第一交叠区域沿Y向的宽度等于所述X偏光片在Y向的宽度。
4.根据权利要求3所述的掩膜,其特征在于,所述X偏光片数量设置为多个,多个所述X偏光片均位于不同的平面内,多个所述X偏光片相互平行设置,每个所述X偏光片在所属的平面内均沿所述X向设置,
沿所述Z向观测,多个所述X偏光片沿Y向的对称轴相互重合,多个所述X偏光片沿Y向依次排列,每相邻的两个所述X偏光片交叠设置,多个所述X偏光片构成X组合偏光片,
沿所述Z向观测,所述Y偏光片与所述X组合偏光片的交叠区域构成第二交叠区域,所述第二交叠区域沿X向的宽度等于所述Y偏光片在X向的宽度,所述第二交叠区域沿Y向的宽度等于所述X组合偏光片在Y向的宽度,通过调节X偏光片相互之间的交叠程度调节所述第二交叠区域沿Y向的宽度,
所述第二交叠区域阻挡光线透过,所述第二交叠区域之外的区域允许光线透过。
5.根据权利要求4所述的掩膜,其特征在于,所述Y偏光片数量设置为多个,多个所述Y偏光片均位于不同的平面内,多个所述Y偏光片相互平行设置,每个所述Y偏光片在所属的平面内均沿所述Y向设置,
沿所述Z向观测,多个所述Y偏光片沿X向的对称轴相互重合,多个所述Y偏光片沿X向依次排列,每相邻的两个所述Y偏光片交叠设置,多个所述Y偏光片构成Y组合偏光片,
沿所述Z向观测,所述Y组合偏光片与所述X组合偏光片的交叠区域构成第三交叠区域,所述第三交叠区域沿X向的宽度等于所述Y组合偏光片在X向的宽度,所述第三交叠区域沿Y向的宽度等于所述X组合偏光片在Y向的宽度,通过调节X偏光片相互之间的交叠程度调节所述第三交叠区域沿Y向的宽度,通过调节Y偏光片相互之间的交叠程度调节所述第三交叠区域沿X向的宽度,
所述第三交叠区域阻挡光线透过,所述第三交叠区域之外的区域允许光线透过。
6.一种掩膜的设备,其特征在于,所述设备包含权利要求1至5中任意一项所述的掩膜,所述设备自下而上依次包括载物台、X向运动装置、Y向运动装置和曝光光学系统,其中,
所述载物台上设置基板,
所述X向运动装置夹持Y偏光片沿X向移动,所述Y向运动装置夹持X偏光片沿Y向移动,所述X向与所述Y向相互垂直,所述X偏光片的偏振方向与所述Y偏光片的偏振方向相互垂直,所述X偏光片与所述Y偏光片在所述基板上方交叠形成第一交叠区域,
所述曝光光学系统发出的光无法透过所述第一交叠区域,所述曝光光学系统发出的光对所述第一交叠区域之外的区域进行曝光处理。
7.根据权利要求6所述的设备,其特征在于,所述Y向运动装置数量设置为多个,其中,
每个Y向运动装置分别夹持一个X偏光片沿Y向运动,每个X偏光片均处于不同的夹持平面内,多个X偏光片所属的夹持平面相互平行,
自上而下观测,多个被夹持的X偏光片沿Y向依次排列,每相邻的两个被夹持的X偏光片交叠设置,多个被夹持的X偏光片构成X组合偏光片,
自上而下观测,所述Y偏光片与所述X组合偏光片的交叠区域构成第二交叠区域,所述曝光光学系统发出的光无法透过所述第二交叠区域,所述曝光光学系统发出的光对所述第二交叠区域之外的区域进行曝光处理,
通过移动被夹持的X偏光片调节X组合偏光片沿Y向的宽度,进而调节所述第二交叠区域沿Y向的宽度。
8.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,所述X向运动装置数量设置为多个,其中,
每个X向运动装置分别夹持一个Y偏光片沿X向运动,每个Y偏光片均处于不同的夹持平面内,每个Y偏光片所属的夹持平面相互平行,
自上而下观测,多个被夹持的Y偏光片沿X向依次排列,每相邻的两个被夹持的Y偏光片交叠设置,多个被夹持的Y偏光片构成Y组合偏光片,
自上而下观测,所述Y组合偏光片与所述X组合偏光片的交叠区域构成第三交叠区域,所述曝光光学系统发出的光无法透过所述第三交叠区域,所述曝光光学系统发出的光对所述第三交叠区域之外的区域进行曝光处理,
通过移动被夹持的Y偏光片调节Y组合偏光片沿X向的宽度,进而调节所述第三交叠区域沿X向的宽度,通过移动被夹持的Y偏光片调节Y组合偏光片沿X向的宽度,进而调节所述第三交叠区域沿X向的宽度。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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