[发明专利]一种掩膜及包含该掩膜的设备

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示面板制程领域，尤其涉及液晶显示面板制程中使用的一种掩膜及包含该掩膜的设备。

背景技术

液晶显示面板制程主要包括涂布、曝光、显影、刻蚀、剥离过程，所谓曝光，就是将掩膜上描绘的控制液晶分子所需要的电路图形及显示图像用的像素图形等转写在玻璃基板上。在这一过程中，掩膜起着至关重要的作用，因此掩膜的种类和工艺对液晶显示面板的制程产生了很大的影响。

用选定的图像、图形或物体，对处理的图像(全部或局部)进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程，用于覆盖的特定图像或物体称为掩膜或模板。光学图像处理中，掩膜可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中，掩膜为二维矩阵数组，有时也用多值图像。数字图像处理中，图像掩膜主要用于：(1)提取感兴趣区，用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；(2)屏蔽作用，用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；(3)结构特征提取，用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图中与掩膜相似的结构特征；(4)特殊形状图像的制作。

液晶显示面板制作过程中，对封框胶进行固化时，就采用上述第(2)中屏蔽作用，即采用掩膜对显示区域进行遮光，只针对框胶进行曝光。目前，在对封框胶进行固化时，使用的掩膜采用玻璃表面镀不透光膜的制作方法，但由于不同液晶显示面板的框胶位置各异，因此当对不同尺寸显示面板的框胶进行固化时，需要手动更换掩膜，导致掩膜种类繁多，且更换掩膜时，需要工作机台闲置，降低了机台的使用效率。

发明内容

针对现有技术中的用于固化封框胶掩膜数量种类繁多，更换掩膜时影响机台效率问题，本发明提出了一种掩膜，并进一步提出了包含该掩膜的设备。

本发明提出的掩膜，包括X偏光片、Y偏光片，X偏光片的偏振方向与Y偏光片的偏振方向相互垂直，X偏光片设置在X平面内，Y偏光片设置在Y平面内，X平面与Y平面平行设置，X偏光片在X平面内沿X向设置，Y偏光片在Y平面内沿Y向设置，且X向与Y向之间的夹角大于0度。

X平面或Y平面的法线方向定义为Z向，沿Z向方向观测，X偏光片与Y偏光片交叠设置，X偏光片与Y偏光片的交叠区域形成第一交叠区域，该第一交叠区域阻挡光线透过，第一交叠区域之外的区域允许光线透过。

根据本领域常识可知，偏光片只允许一个方向的偏振光通过，当两个偏振方向相互垂直的偏光片交叠设置时，交叠区域将没有光线通过，因此第一交叠区域不允许曝光光线透过。可以用第一交叠区域将基板上不需要曝光处理部分遮盖住，曝光光线透过第一交叠区域之外的区域，并对第一交叠区域之外的区域进行曝光处理，此种掩膜不再需要另外使用带有不透光膜的玻璃，而是采用现有的偏光片构成掩膜，节省了材料和制作掩膜的工艺。

作为对本发明的掩膜的进一步改进，X偏光片呈长方形，Y偏光片呈长方形，将X向与Y向之间的夹角设置为90度，当沿Z向观测时，第一交叠区域沿X向的宽度等于Y偏光片在X向的宽度，第一交叠区域沿Y向的宽度等于X偏光片在Y向的宽度。

在对液晶显示面板的封框胶进行固化时，选取在Y向的宽度与液晶区在Y向宽度相匹配的X偏光片，且选取在X向的宽度与液晶区在X向宽度相匹配的Y偏光片，这样使得第一交叠区域的面积与液晶区面积相匹配，因此第一交叠区域可以将液晶区完全遮盖，保护液晶区免受曝光光线的破坏，曝光光线对液晶区外的封框胶进行固化，这样在对液晶显示面板的封框胶进行固化时，就可以使用现有的偏光片正交重叠构成掩膜，省去了另外制作掩膜的工艺和材料。

作为对本发明的掩膜的进一步改进，所述X偏光片数量设置为多个，多个X偏光片均位于不同的平面内，多个X偏光片相互平行设置，每个X偏光片在所属的平面内沿X向设置，沿所述Z向观测，多个所述X偏光片沿Y向的对称轴相互重合，多个所述X偏光片沿Y向依次排列，每相邻的两个所述X偏光片交叠设置，多个所述X偏光片构成X组合偏光片。

沿所述Z向观测，所述Y偏光片与所述X组合偏光片的交叠区域构成第二交叠区域，所述第二交叠区域沿X向的宽度等于所述Y偏光片在X向的宽度，所述第二交叠区域沿Y向的宽度等于所述X组合偏光片在Y向的宽度，通过调节X偏光片相互之间的交叠程度调节所述第二交叠区域沿Y向的宽度，所述第二交叠区域阻挡光线透过，第二交叠区域之外的区域允许光线透过。