[发明专利]开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体在审
申请号: | 201611241821.X | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106782998A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 李毅;胡洋;王秋良;朱旭晨 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | H01F6/06 | 分类号: | H01F6/06;G01R33/3815 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人: | 关玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 开放式 屏蔽 磁共振 成像 超导 磁体 | ||
1.一种开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体,其特征在于,所述的超导磁体由四对超导线圈组成,四对超导线圈沿z坐标上下布置,关于中心对称;所述的四对线圈包括一对平面指纹匀场线圈组(1),一对第一主磁场线圈(2),一对第二主磁场线圈(3)和一对屏蔽线圈(4);平面指纹匀场线圈组(1)布置在离中心点最近处,向外依次布置第一主磁场线圈(2)、第二主磁场线圈(3),屏蔽线圈(4)布置在最外层;第一主磁场线圈一(2)、第二主磁场线圈(3)通正向电流,提供主磁场强度;屏蔽线圈(4)通反向电流,产生与主磁场相反的磁场,以消除磁体对外部空间的杂散磁场;平面指纹匀场线圈组(1)对中心区域的磁场进行补偿,以提高磁体在球形区域的磁场均匀度;四对超导线圈置于同一低温杜瓦中。
2.按照权利要求1所述的开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体,其特征在于,所述的平面指纹匀场线圈组(1)包含15组有源匀场线圈,分别为:轴向一阶线圈Z1、轴向二阶线圈Z2、轴向三阶线圈Z3,两组径向一阶线圈X、Y,四组径向二阶线圈ZX、ZY、X2-Y2、XY,六组径向三阶线圈Z2X、Z2Y、Z(X2-Y2)、ZXY、X3、Y3;所述的平面指纹匀场线圈组(1)的所有各阶线圈采用层层叠放的形式置于对称空间位置中。
3.按照权利要求1所述的开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体,其特征在于,根据所述的第一主磁场线圈(2)、第二主磁场线圈(3)与屏蔽线圈(4)的空间几何位置、尺寸大小及中心区域的磁场强度,确定平面指纹匀场线圈组(1)的各阶匀场线圈的匀场强度、超导线规格以及电流大小。
4.按照权利要求1所述的开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体,其特征在于,所述的开放式自屏蔽磁共振成像超导磁体最外直径小于1.4米,上下极最小间距大于0.5米,最大间距大于0.75米,具有最大间距的区域直径大于1.1米。
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