[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器在审
申请号: | 201611245102.5 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106773251A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 向长江;张侠 | 申请(专利权)人: | 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人: | 韩冰,严政 |
地址: | 215300 江苏省苏州市昆山市开*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 及其 制备 方法 以及 显示 面板 显示器 | ||
1.一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板(1)、黑矩阵(2)、像素单元(3)、平坦化层(4)、凸块(5)和柱隔垫物;其中所述黑矩阵(2)和像素单元(3)形成在所述衬底基板(1)上,所述黑矩阵(2)填充在相邻的彩色像素单元(3)之间;所述平坦化层(4)形成在所述黑矩阵(2)和像素单元(3)上;所述凸块(5)形成在所述平坦化层(4)上、位于部分黑矩阵(2)的上方;所述柱隔垫物包括第一柱隔垫物(61)和第二柱隔垫物(62),所述第一柱隔垫物(61)形成在所述凸块(5)上,所述第二柱隔垫物(62)形成在所述平坦化层(4)上、位于未形成凸块(5)的部分黑矩阵(2)上。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其中,所述第一柱隔垫物(61)和第二柱隔垫物(62)的高度相同,分别为3-4μm,所述凸块(5)的高度为0.3-0.6μm,优选0.4-0.5μm;
优选地,所述凸块(5)与所述平坦化层(4)一体成型。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板,其特征在于,所述像素单元(3)包括两两相邻的红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)和蓝色像素单元(33)。
4.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
S1、在衬底基板(1)上形成黑矩阵(2)和像素单元(3),所述黑矩阵(2)填充在相邻的彩色像素单元(3)之间;
S2、在所述黑矩阵(2)和像素单元(3)上形成平坦化层(4)、并在所述平坦化层(4)上、位于部分黑矩阵(2)的上方形成凸块(5);
S3、同时在所述凸块(5)的上方形成第一柱隔垫物(61),在所述平坦化层(4)上、位于未形成凸块(5)的部分黑矩阵(2)的上方形成第二柱隔垫物(62)。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述S2包括:
S21、在所述黑矩阵(2)和像素单元(3)上形成平坦化层(4);
S22、在所述平坦化层(4)上涂覆凸块光刻胶(7),形成凸块光刻胶层;
S23、对所述凸块光刻胶层(7)进行曝光显影,在所述平坦化层(4)上、位于部分黑矩阵(2)的上方形成凸块前体;
S24、干燥所述凸块前体形成所述凸块(5)。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述S2包括:
S21、在所述黑矩阵(2)和像素单元(3)上形成平坦化层预备体(4′);
S22、在所述平坦化层预备体上涂覆牺牲光刻胶,形成牺牲光刻胶层(8);
S23、对所述牺牲光刻胶层(8)进行曝光显影,在所述平坦化层预备体(4′)上、位于部分黑矩阵(2)的上方形成掩膜块(8′);
S24、沿所述掩膜块(8′)向下干法刻蚀所述平坦化层预备体(4′),形成平坦化层(4)和在所述平坦化层(4)上、位于部分黑矩阵(2)的上方形成凸块(5);
S25、去除所述掩膜块(8′)。
7.根据权利要求4所述的制备方法,所述S4包括:
S31、在所述平坦化层(4)和所述凸块(5)上涂覆柱隔垫物光刻胶,形成柱隔垫物光刻胶层;
S32、在所述柱隔垫物光刻胶层进行曝光显影,在所述凸块(5)的上方形成第一柱隔垫物前体,在所述平坦化层(4)上、位于未形成凸块(5)的部分黑矩阵的上方形成第二柱隔垫物前体;
S33、干燥所述第一柱隔垫物前体和所述第二柱隔垫物前体形成第一柱隔垫物(61)和第二柱隔垫物(62)。
8.根据权利要求4所述的制备方法,所述S2中形成的所述像素单元包括两两相邻的红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)和蓝色像素单元(33)。
9.一种显示面板,所述显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及设置在两者之间的液晶层,其特征在于,所述彩膜基板为权利要求1或2所述的彩膜基板。
10.一种显示器,所述显示器包括显示面板,其特征在于,所述显示面板为权利要求9所述的显示面板。
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