[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器

说明书

技术领域

本发明涉及显示器的加工领域，具体地，涉及一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器。

背景技术

液晶显示面板主要由彩膜基板、阵列基板和夹在两基板之间的液晶组成，彩膜基板上还设有用以支撑液晶盒的柱隔垫物，为了防止产线波动带来的Bubble(气泡)或重力Mura(指显示器亮度不均匀，出现光斑)现象，需要在彩膜基板上设置两种不同高度的柱状隔垫物，从而降低产线波动时固定液晶量对液晶显示面板造成Bubble或重力Mura的风险。

在现有技术中，一般通过half tone mask(半色调掩膜)在彩膜基板形成两种不同高度的柱状隔垫物，但是在使用half tone mask(半色调掩膜)进行曝光时，两种不同高度的柱状隔垫物对应的曝光强度是不同的，由于曝光衍射，较高的曝光强度会对较低的曝光强度所对应的柱状隔垫物造成影响，使得较低的曝光强度所对应的柱状隔垫物出现火山口状不良，从而导致柱状隔垫物对液晶显示面板的支撑强度变低，当液晶显示面板受到按压时会出现Gap性不良(受压造成的显示不均匀)。

发明内容

本发明的目的是提供一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器，以降低显示面板受到按压时出现Gap性不良的风险。

为了实现上述目的，在本发明中提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵、像素单元、平坦化层、凸块和柱隔垫物；其中所述黑矩阵和像素单元形成在所述衬底基板上，所述黑矩阵填充在相邻的彩色像素单元之间；所述平坦化层形成在所述黑矩阵和像素单元上；所述凸块形成在所述平坦化层上、位于部分黑矩阵的上方；所述柱隔垫物包括第一柱隔垫物和第二柱隔垫物，所述第一柱隔垫物形成在所述凸块上，所述第二柱隔垫物形成在所述平坦化层上、位于未形成凸块的部分黑矩阵上。

同时，在本发明中还提供了一种彩膜基板的制备方法，该制备方法包括：S1、在衬底基板上形成黑矩阵和像素单元，所述黑矩阵填充在相邻的彩色像素单元之间；S2、在所述黑矩阵和像素单元上形成平坦化层、并在所述平坦化层上、位于部分黑矩阵的上方形成凸块；S3、同时在所述凸块的上方形成第一柱隔垫物，在所述平坦化层上、位于未形成凸块的部分黑矩阵的上方形成第二柱隔垫物。

另外，在本发明中还提供了一种显示面板，该显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及设置在两者之间的液晶层，该彩膜基板为根据本发明所述的彩膜基板。

此外，在本发明中还提供了一种显示器，该显示器包括显示面板，所述显示面板为根据本发明的显示面板。

应用本发明所提供的上述彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器，通过在彩膜基板的平坦化层上形成凸块，使得后续形成隔垫物的步骤中，无需采用半色调掩膜就能够在同一步骤中同时形成位于所述凸块的上方形成第一柱隔垫物，以及在所述平坦化层上、位于未形成凸块的部分黑矩阵的上方形成第二柱隔垫物。通过设置所述凸块，使得第一柱隔垫物和第二柱隔垫物顶部的相对高度不同，能够降低产线波动时固定液晶量对液晶显示面板造成Bubble或重力Mura的风险；而通过相同工艺制备，使得第一柱隔垫物和第二柱隔垫物的顶面平整、强度相同，能够降低显示面板受到按压时会出现Gap性不良的风险。

本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1示出了根据本发明一种实施例的彩膜基板的结构示意图；

图2-1至图2-4示出了根据本发明一种实施例的制备彩膜基板的流程示意图；

图3-1至图3-6示出了根据本发明另一种实施例的制备彩膜基板的流程示意图。

附图标记说明

1为衬底基板、2为黑矩阵、3为像素单元、31为红色像素单元、32为绿色像素单元、33为蓝色像素单元、4为平坦化层、4′为平坦化层预备体、5为凸块、61为第一柱隔垫物、62为第二柱隔垫物、7为凸块光刻胶层、8为牺牲光刻胶层、8′为掩膜块。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下为本领域通常意义下的相对位置关系，例如附图1所示结构下的相对位置关系。