[发明专利]一种高纯氮化铈粉体及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201611256476.7 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106629634B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 杨志平;路亚娟;刘通;赵金鑫 申请(专利权)人: 河北利福光电技术有限公司
主分类号: C01B21/06 分类号: C01B21/06
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 苏艳肃
地址: 071000 *** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 高纯 氮化 铈粉体 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

发明提供了一种高纯氮化铈粉体,该粉体CeN含量≥93.7wt%,N含量≥8.51wt%。所述高纯氮化铈粉体的制备方法为,将纯度为99wt%的Ce粉预处理后和助剂混合均匀,在特定反应气氛中进行烧结,并将烧结后的产物充分研磨后再混以助剂和添加剂进行第二次烧结,最后对所得到的氮化铈粉体进行表面处理。本发明所提供的高纯氮化铈粉体能够应用于高性能陶瓷,半导体材料和发光材料的制备,本发明提供的方法工艺简单,成本较低,适宜大规模化工业生产。

技术领域

本发明涉及材料科学技术领域,具体涉及一种高纯氮化铈粉体及其制备方法和应用。

背景技术

稀土素有“工业维生素”之美称,是极其重要的战略资源,在石油、化工、冶金、纺织、陶瓷、玻璃、永磁材料等领域都有着广泛的应用。因此,对稀土化合物的研究显得十分重要。

氮化铈可以用来制作各种无机复合材料,如高性能陶瓷,半导体材料,发光材料等,而制备这些材料对氮化铈的纯度有着极高的要求。

目前氮化铈的制备方法中,以高温固相直接氮化法为主。这种方法的优点在于工艺简单,成本低,杂质含量低,但其缺点也十分明显,金属Ce粉在空气中易被氧化,使得产品的纯度不高,一般氮含量在6.8wt%~8.0wt%之间,难以满足客户需求。而一些其他的制备方法,如氢化物热解法,还原法,液相法,气相法等,普遍具有工艺流程复杂,生产周期长,成本高,易引入杂质,对设备要求过高,产量低等缺点。

发明内容

本发明的目的是提供一种高纯氮化铈粉体及其制备方法和应用,以解决现有技术中制得的CeN粉体纯度低,工艺复杂,设备要求高的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:本发明提供了一种高纯氮化铈粉体,该粉体CeN含量≥93.7wt%,N含量≥8.51wt%(纯度为100wt%的CeN中理论N含量是9.09wt%)。

进一步地,本发明提供了一种高纯氮化铈粉体,该粉体CeN含量≥99.5wt%,N含量≥9.04wt%。

进一步地,本发明提供了一种高纯氮化铈粉体,该粉体99.6wt%≥CeN含量≥93.7wt%,9.05wt%≥N含量≥8.51wt%。

本发明还提供了一种制备上述高纯氮化铈粉体的方法,包含如下步骤:

a、将Ce粉进行液相球磨处理,所用液体介质为去离子水、有机溶剂、稀碱性溶液中的一种,液相球磨后Ce粉的粒度为1.5μm~2.5μm;

b、按照比例称取Ce粉和助剂A、C、添加剂B为原料,其中A为NH4Cl和NH4F中的至少一种,B为CeN,C为无水CeCl3,且各原料质量比为Ce粉∶A=80∶20~95∶5,Ce粉∶(B+C)=80∶20~95∶5,B∶C=50∶50~20∶80;

c、将步骤b中所称取的Ce粉和助剂A混合均匀,并置于坩埚中;

d、在H2反应气氛下以5~10℃/min的速率升温至300~500℃,保温2~5h,然后以5~10℃/min的速率降温至200℃,再自然降至室温,得到一次烧结产物;

e、将一次烧结产物充分研磨,并与步骤b中称取的添加剂B和助剂C混合均匀,置于坩埚中;

f、在N2或NH3或N2和NH3的混合气氛下以5~10℃/min的速率升温至800~1200℃,并保温4~10h,然后以5~10℃/min的速率降温至200℃,再自然降至室温,得到二次烧结产物;

g、将二次烧结产物研磨、过筛后得到高纯CeN粉体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北利福光电技术有限公司,未经河北利福光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611256476.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top