[实用新型]一种锗还原炉有效
| 申请号： | 201620014853.5 | 申请日： | 2016-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN205368471U | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 唐安泰;李建平 | 申请（专利权）人： | 昆明汇泉高纯半导材料有限公司 |
| 主分类号： | C22B41/00 | 分类号： | C22B41/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650300 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 还原 | ||
【权利要求书】：
1.一种锗还原炉，包括推料机构（1），炉门机构（2），炉头端（3），排气口（4），炉体（5），炉心（19），吊板（15），送气管（13），喷口（14），支撑板（22），通孔（21），其特征在于：炉体（5）为中空结构，炉体（5）左端设置有炉头端（3），炉体（5）右端设置有炉尾端（17），炉头端（3）左侧设置有推料机构（1），炉头端（3）左部设置有炉门机构（2），炉头端（3）中部设置有排气口（4），炉尾端（17）上部设置有进气口（16），炉尾端（17）下部设置有排渣口（18），炉体（5）内部设置有炉心（19），炉心（19）上端设置有若干吊板（15），炉心（19）上部设置有送气管（13），送气管（13）上设置有若干喷口（14），炉心（19）下部设置有支撑板（22），支撑板（22）上设置有若干通孔（21）。
2.根据权利要求1所述一种锗还原炉，其特征在于：所述炉体（5）由外至内分别设置有外壳（6）、真空隔热层（7）、纤维毡层（8）、保温砖层（9）、轻质耐火砖层（10）、高铝砖层（11）、加热装置（12）。
3.根据权利要求2所述一种锗还原炉，其特征在于：所述加热装置（12）上设置有若干石墨电极（20）。
4.根据权利要求3所述一种锗还原炉，其特征在于：所述真空隔热层（7）的厚度为50毫米。
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