[实用新型]一种基于侧边抛磨渐变折射率光纤的氢气传感装置有效
| 申请号： | 201620040539.4 | 申请日： | 2016-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN205317669U | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 包立峰;姚宇竹;严洒洒;白芸;吴学慧;沈常宇 | 申请（专利权）人： | 中国计量学院 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 侧边 渐变 折射率 光纤 氢气 传感 装置 | ||
1.一种基于侧边抛磨渐变折射率光纤的氢气传感装置，其特征在于：由半导体激光器(1)， 第一GRIN透镜(2)，第一单模光纤(3)，渐变折射率光纤(4)，氢敏感薄膜(5)，第二GRIN 透镜(6)，第二单模光纤(7)，光功率计(8)，恒温气室(9)组成，半导体激光器(1)出 射端与第一GRIN透镜(2)紧密相连，半导体激光器(1)发射的光束经第一GRIN透镜(2) 耦合到第一单模光纤(3)纤芯，第一单模光纤(3)出射端与渐变折射率光纤(4)入射端直 接耦合相连，渐变折射率光纤(4)出射光束经第二GRIN透镜(6)耦合到第二单模光纤(7) 纤芯，第二单模光纤(7)出射端与光功率计(8)相连；渐变折射率光纤(4)经过侧边抛磨 后溅射氢敏感薄膜(5)形成敏感区，渐变折射率光纤(4)与氢敏感薄膜(5)一起置于恒温 气室(9)中。
2.根据权利要求1所述的一种基于侧边抛磨渐变折射率光纤的氢气传感装置，其特征在于： 所述的渐变折射率光纤(4)具体为纤芯折射率倒置分布的渐变折射率光纤，纤芯直径约为 400μm，入射端面与出射端面均经过抛光处理。
3.根据权利要求1所述的一种基于侧边抛磨渐变折射率光纤的氢气传感装置，其特征在于： 所述的渐变折射率光纤(4)采用轮式侧抛技术进行侧边抛磨去除部分包层和纤芯，纤芯抛磨 后剩余厚度为200μm～300μm，纤芯裸露长度为20mm；采用磁控溅射法在裸露的纤芯上溅射 氢敏感薄膜(5)，具体为膜厚40nm～200nm的Au/Pd薄膜或Ag/Pd薄膜。
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