[实用新型]含粒子的双面ITO导电膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及导电膜技术领域，尤其涉及一种含粒子的双面ITO导电膜。

背景技术

触摸式屏幕在手机和平板电脑等有着越来越多的应用，触摸屏作为一种新型的输出设备已十分流行和普遍，因此作为触摸屏必不可少的透明导电膜需求量也越来也大。ITO导电膜透过率最高和导电性能最好，广泛地应用于移动通讯领域的触摸屏。ITO膜层的厚度不同，膜的导电性能和透光性能也不同。一般来说，在相同的工艺条件和性能相同的PET基底材料的情况下，ITO膜层越厚，PET-ITO膜的表面电阻越小，光透过率也相应的越小。现有含粒子的双面ITO导电膜，如图1所示，由两个单面的ITO导电膜21通过粘结层22结合成双面的ITO导电膜，每一单面ITO导电膜21包括基材层211、设置在基材层211上的光学调整层212以及设置在光学调整层上的ITO层213。该结构的双面ITO导电膜，由于层结构及层厚度的设计不合理，影响粒子的凸起程度，存在ITO层密著性差以及透过率低等问题。

实用新型内容

鉴于以上所述，本实用新型研发一种合理的层结构设计与厚度控制，使得粒子凸起不收影响，密著性佳且透光率理想。

一种含粒子的双面ITO导电膜，包括基材层，基材层两面依序为光学调整硬涂层、光学调整层、ITO导电层，其中，基材厚度介于23um至250um之间，光学调整硬涂层中添加有机或无机粒子，光学调整硬涂层的厚度为500nm至5um之间，光学调整硬涂层的折射率介于1.6至1.7之间，ITO导电层厚度小于40nm，双面光学调整层与双面ITO导电层的总厚度小于120nm。

进一步地，所述双面光学调整层与双面ITO导电层的总厚度小于100nm。

进一步地，在双面皆含有ITO导电层的情况下，色差b*值小于4.5。

进一步地，所述光学调整硬涂层的铅笔硬度为F以上。

进一步地，所述光学调整硬涂层与光学调整层间添加有密著层。

进一步地，所述光学调整硬涂层折射率优选为1.65-1.7,厚度优选为1-10um，光学调整层厚度优选为20-30nm，ITO导电层厚度优选为20-25nm。

更进一步地，所述光学调整硬涂层的厚度优选为1-5um。

进一步地，所述光学调整硬涂层折射率为1.65,厚度为1um，光学调整层厚度为20nm，ITO导电层厚度为20nm。

进一步地，所述粒子的直径为500nm至10um之间。

进一步地，所述粒子的直径优选为500nm至5um之间。

本实用新型的有益效果，本实用新型含粒子的双面ITO导电膜通过各层结构的合理设计及厚度控制，ITO导电层密著性佳，透光率高，光学调整硬涂层较薄，不会影响粒子凸起程度。

附图说明

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，描述中的附图仅仅是对应于本实用新型的具体实施例，对于本领域普通技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，在需要的时候还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有双面ITO导电膜的层结构示意图；

图2为本实用新型的含粒子的双面ITO导电膜截面示意图；

图3为对比实施例一双面ITO导电膜的层结构示意图；

图4为对比实施例二双面ITO导电膜的层结构示意图；

图5为对比实施例三双面ITO导电膜的层结构示意图。

具体实施方式

为了详细阐述本实用新型为达成预定技术目的而所采取的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的部分实施例，而不是全部的实施例，并且，在不付出创造性劳动的前提下，本实用新型的实施例中的技术手段或技术特征可以替换，下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

请参阅图2，一种含粒子的双面ITO导电膜，包括基材层10，基材层两面依序为光学调整硬涂层11、光学调整层12、ITO导电层13。双面ITO导电膜内分布有粒子14，粒子14添加于光学调整硬涂层11中，使得光学调整硬涂层11、光学调整层12、ITO导电层13在覆盖粒子14所在位置对应地形成为凸起，粒子的直径为500nm-10um。