[实用新型]V法铸造用薄膜加热装置有效
| 申请号： | 201620064283.0 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN205380253U | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 王治国 | 申请（专利权）人： | 文水县易鑫铸造有限公司 |
| 主分类号： | B22C9/03 | 分类号： | B22C9/03;B22C23/00 |
| 代理公司： | 唐山永和专利商标事务所 13103 | 代理人： | 王永红 |
| 地址： | 032100 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铸造 薄膜 加热 装置 | ||
1.一种V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，包括：
用于吸附薄膜的薄膜吸附支架；
用于对所述薄膜进行加热的加热元件；以及
加热度探测装置；
其中，所述加热度探测装置包括位于所述薄膜下方且相对地设置在所述薄膜两侧的第一探测器和第二探测器。
2.根据权利要求1所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述薄膜为EVA薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述第一探测器和所述第二探测器位于同一水平面上，且所述水平面与未被加热的所述薄膜之间的距离为所述薄膜被加热的刚好时下垂的距离。
4.根据权利要求1或2所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述第一探测器是能够发射光信号的光电传感器。
5.根据权利要求1或2所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述第二探测器为能够接收光信号并将其反射回所述第一探测器的反射板。
6.根据权利要求1或2所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述加热元件为红外线加热管。
7.根据权利要求6所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述红外线加热管为多个。
8.根据权利要求1或2所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述加热元件上方还安装有一罩体。
9.根据权利要求1或2所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述加热装置进一步包括控制器，所述控制器在所述第一探测器没有接收到所述第二探测器反射回的光信号后被启动以控制所述薄膜吸附支架进行升降运动。
10.根据权利要求9所述的V法铸造用薄膜加热装置，其特征在于，所述控制器为PLC控制器。
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