[实用新型]一种多晶制绒设备药液冷却系统有效
| 申请号： | 201620083016.8 | 申请日： | 2016-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN205355019U | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 宋剑;孙月新;黄华;范琼;梅晓东;刘林华 | 申请（专利权）人： | 无锡德鑫太阳能电力有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 214028 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 设备 药液 冷却系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种多晶制绒设备药液冷却系统，其特征在于：包括制绒槽体，以及设置在制绒槽体内的滚轮和冷却盘管，所述冷却盘管位于滚轮下方，包括盘管主体、冷却液进口和冷却液回流口，所述冷却盘管的轴向与制绒槽体底部平行，且与滚轮传输方向垂直。
2.根据权利要求1所述的多晶制绒设备药液冷却系统，其特征在于：所述制绒槽体的每个反应池内均匀排布有多根冷却盘管，所述冷却盘管之间相平行。
3.根据权利要求1所述的多晶制绒设备药液冷却系统，其特征在于：所述冷却盘管靠近滚轮排列。
4.根据权利要求3所述的多晶制绒设备药液冷却系统，其特征在于：所述冷却盘管顶端与滚轮中心的距离为25mm。
5.根据权利要求1所述的多晶制绒设备药液冷却系统，其特征在于：所述冷却液进口和冷却液回流口均与盘管主体垂直。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡德鑫太阳能电力有限公司，未经无锡德鑫太阳能电力有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620083016.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
