[实用新型]一种蒸发源系统

说明书

本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸发源系统，用以解决现有技术中存在的由于坩埚温度不均匀而导致蒸镀到基板上的膜层厚度不均匀的问题。该蒸发源系统基于现有的蒸发源设备，增加激光加热装置，该激光加热装置针对温度低于预设阈值的喷嘴进行加热处理，使得该喷嘴的温度提升至不易凝固的温度，即至少达到预设阈值。这样，即使蒸发源本体对各个坩埚的加热均匀性不好，也可以通过激光加热装置改善这一不均匀性对各个喷嘴的影响，使得各个喷嘴的温度接近一致，避免由于温度不足而容易使有机材料粘连在喷嘴内径而导致喷嘴堵塞的问题，进而，保证蒸镀到基板上的膜层厚度的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸发源系统。

背景技术

现有的显示面板的制备过程中，需要利用蒸镀工艺沉积相应膜层，例如，有机电致发光(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板中的有机发光膜层等的制备。其中，蒸镀工艺必不可少的设备为蒸发源设备，如图1所示，为现有的蒸发源设备中任一坩埚的截面示意图，主要包括：蒸发源本体11，嵌设在蒸发源本体11内的坩埚12，(其实，每个蒸发源设备可以包含多个坩埚，本实施例仅以一个坩埚为例进行说明)坩埚12可设置为矩形腔室，每个腔室的上方设置有多个用于喷射出经加热而蒸发的待成膜材料的喷嘴13。在实际的蒸镀时，该蒸发源设备的蒸发源本体11对坩埚12加热，坩埚12中的有机材料分子在受热后经过喷嘴13被蒸镀到基板上。

然而，由于上述蒸发源设备中坩埚加热的温度均匀性不好，若坩埚温度不足则容易使有机材料粘连在喷嘴内径从而导致喷嘴堵塞，尤其针对所属同一坩埚的喷嘴而言，若发生堵塞则容易致使坩埚内部压强变化，有可能影响其他喷嘴的蒸镀情况，最终，导致蒸镀到基板上的膜层厚度不均匀。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种蒸发源系统，用以解决现有技术中存在的由于坩埚温度不均匀而导致蒸镀到基板上的膜层厚度不均匀的问题。

本实用新型实施例采用以下技术方案：

一种蒸发源系统，包括：蒸发源本体，嵌设在所述蒸发源本体上的至少一个坩埚，所述坩埚上方设置有一个或多个用于喷射出经加热而蒸发的待成膜材料的喷嘴，还包括：至少一个激光加热装置；

其中，所述激光加热装置用于在任意一个或多个喷嘴的温度低于预设阈值时，对所述一个或多个喷嘴进行加热处理，以使得所述一个或多个喷嘴的温度至少达到预设阈值，所述预设阈值为所述待成膜材料的熔融温度值。

可选地，所述蒸发源系统还包括：与每个喷嘴对应设置的温度传感器；

其中，所述温度传感器用于对相应的喷嘴的温度进行实时监控，并在温度低于预设阈值时，向所述激光加热装置发送加热信号；

所述激光加热装置具体用于在接收到所述加热信号时，对发送该加热信号的温度传感器对应的喷嘴进行加热处理，以使得所述喷嘴达到不易堵塞的温度。

该技术方案可实时对喷嘴进行监控，以通知激光加热装置对相应喷嘴进行加热处理。

可选地，所述温度传感器还用于在所述激光加热装置对相应喷嘴进行加热一段时间后且该喷嘴的温度达到预设阈值时，向所述激光加热装置发送停止加热信号；

所述激光加热装置还用于在接收到所述停止加热信号时，停止对发送该停止加热信号的温度传感器对应的喷嘴进行加热处理。

该技术方案可根据温度传感器发送的停止加热信号，停止对喷嘴的加热处理，从而，能够准确实现对喷嘴的加热处理，提升加热精准度。

可选地，所述激光加热装置还用于在对相应喷嘴加热预设时长之后，停止对所述喷嘴进行加热处理。

该技术方案根据经验值设定预设时长，使得加热处理后的喷嘴的温度更为接近蒸镀所需的温度。