[实用新型]直写式曝光机中用于激光一分N的系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种直写式曝光机中用于激光一分N的系统，属于直写式光刻机曝光技术领域。

背景技术

直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位；利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。

目前，曝光机内部常规采用多组光路来实现大板曝光，如果每组光路均采用一个激光器，那么在曝光控制中难以精准的控制各组光路的能量一致性，且曝光机中使用激光器越多，成本越高。

发明内容

针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种直写式曝光机中用于激光一分N的系统，通过一束光源实现多组均匀出射光，进而降低生产成本、保证生产质量。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种直写式曝光机中用于激光一分N的系统，包括：

单个激光器以及n个分光单元；

其中，分光单元包括处于同一平行线的分光镜和呈45°角的反射镜；

所述单个激光器发出光束照射到分光单元的分光镜上，一束光经过反射镜反射、另一束穿过分光镜照射到下一个分光单元，进而实现一束光源一分N束。

所述的单个激光器与初始分光单元之间设有可旋转玻片，通过旋转玻片实现光束的均匀性。

所述的每两个分光单元的分光镜之间均设有玻片。

所述的激光器为高功率可调激光器。

与现有的多个激光器方式相比，本实用新型大大降低了生产成本，使用单个激光器发出光束经过N个分光单元实现N个光束进行曝光，即单个光源实现多组均匀出射光，并且使用一个高功率激光器，通过光学系统对其进行精准分光，通过电子控制激光器的脉冲频率可以精准改变激光器的出射能量，满足不同需求的曝光能量；通过微调玻片可以保证各组光路的出射能量高度一致。

附图说明

图1为本实用新型实施例结构原理示意图；

图2为本实用新型的分光单元示意图。

图中：1、激光器，2、玻片一，3、分光镜一，4、玻片二，5、分光镜二，6、反射镜一，7、玻片三，8、分光镜三，9反射镜二，10、玻片N，11、分光镜N，12、反射镜N。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1和图2：本实用新型为一种直写式曝光机中用于激光一分N的系统，包括：

单个激光器1以及n个分光单元；

其中，分光单元包括处于同一平行线的分光镜和呈45°角的反射镜；

所述单个激光1发出光束照射到分光单元的分光镜上，一束光经过反射镜反射、另一束穿过分光镜照射到下一个分光单元，进而实现一束光源一分N束。

如图1所示：所述的单个激光器1与初始分光单元之间设有可旋转玻片一2，通过旋转玻片一2实现光束的均匀性。

如图1，所述的每两个分光单元的分光镜之间均设有玻片，通过微调玻片可以保证各组光路的出射能量高度一致。

为了满足使用要求：所述的激光器1为高功率可调激光器，电子控制激光器1的脉冲频率可以精准改变激光器1的出射能量，满足不同需求的曝光能量。

如图1所示，为本实用新型的一个实施例：

激光器1发出光束通过玻片一2照射到分光镜一3，一束光被反射到玻片三7至分光镜三8后被一分二，一束经过反射至反光镜9另一束则继续穿过分光镜三8照射到下一个分光单元；穿过分光镜一3的光束通过玻片二4照射到下一个分光镜二5和反射镜二6上，每束光路依次类推，最终形成一分N束光束；

其中，图2为分光单元包括分光镜N11、反射镜N12，玻片N10用于对光束微调，保证各组光路的出射能量高度一致。

综上所述：本实用新型大大降低了生产成本，使用单个激光器1发出光束经过N个分光单元实现N个光束进行曝光，即单个光源实现多组均匀出射光，并且使用一个高功率激光器，通过光学系统对其进行精准分光，通过电子控制激光器1的脉冲频率可以精准改变激光器的1出射能量，满足不同需求的曝光能量；通过微调玻片可以保证各组光路的出射能量高度一致。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进，均应包含在本实用新型技术方案的保护范围之内。