[实用新型]背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器

权利要求书

1.用于外延沉积反应器的基座(200)，包括一个盘状部分(220)，所述盘状部分(220)具有一条可被水平放置对称轴(Z)，所述盘状部分(220)在其底部包括至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起，所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起距盘状部分(220)的对称轴(Z)有一定距离，所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起可以接收旋转轴(300)的端部(330)上至少一个相应的非中心凸起(333A)和/或至少一个相应的非中心凹陷，以确保基座(200)的角度定位和旋转运动从一个旋转轴(300)传导到基座(200)。

2.权利要求1所述的基座(200)，其中所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起的形状可补偿所述基座(200)在外延沉积反应器中使用时随温度的变化。

3.权利要求1或2所述的基座(200)，包括多个非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)和/或多个非中心凸起，以确保角度定位和旋转运动的传导。

4.权利要求1或2所述的基座(200)，其顶部具有一个表面(221)用于支撑至少一个进行外延沉积工艺处理的衬底(100)，其底部具有一个底座(230)，具有一条和盘状部分(220)的对称轴(Z)重合的对称轴(Z)，

所述底座(230)可接收旋转轴(300)的端部(330)的中心凸起(332)。

5.权利要求4所述的基座(200)，其中所述表面(221)可以直接或间接地支撑至少一个进行外延沉积工艺处理的衬底(100)。

6.权利要求4所述的基座(200)，其中所述盘状部分(220)底部包括一个具有一个中心凹陷的底座，且所述盘状部分(220)底部包括一个或多个为径向拉伸的圆柱形的非中心凹陷。

7.权利要求4所述的基座(200)，其中所述底座(230)底部包括一个中心凹陷(232)，以及一个或多个为径向拉伸的圆柱形的非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)。

8.用于外延沉积的反应器(1000)，包括至少一个权利要求1至7中任一项所述的基座(200)。

9.权利要求8所述的反应器(1000)，包括一个旋转轴(300)，其包括一个端部(330)以转动具有盘状部分(220)的基座(200)，其中端部(330)和盘状部分(220)连接从而支撑它并传导旋转运动。

10.权利要求9所述的反应器(1000)，其中旋转运动的传导主要由摩擦导致。

11.权利要求9或10所述的反应器(1000)，其中所述端部(330)包括至少一个非中 心凸起(333A)和/或至少一个非中心凹陷和可选的一个中心凸起(332)。

12.权利要求11所述的反应器(1000)，其中所述端部(330)包括一个圆盘(331)，一个或多个凸起(332，333A，333B，333C，333D)从圆盘(331)上凸起。

13.权利要求10所述的反应器(1000)，其中所述盘状部分(220)在其底部包括多个布置成冠状并在径向拉伸的非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)，所述端部(330)包括多个布置成冠状的圆柱形非中心凸起(333A，333B，333C，333D)可与所述多个非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)结合。

14.权利要求11所述的反应器(1000)，其中所述盘状部分(220)在其底部包括多个布置成冠状并在径向拉伸的非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)，所述端部(330)包括多个布置成冠状的圆柱形非中心凸起(333A，333B，333C，333D)可与所述多个非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)结合。

15.权利要求12所述的反应器(1000)，其中所述盘状部分(220)在其底部包括多个布置成冠状并在径向拉伸的非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)，所述端部(330)包括多个布置成冠状的圆柱形非中心凸起(333A，333B，333C，333D)可与所述多个非中心凹陷(233A，233B，233C，233D)结合。