[实用新型]背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器

说明书

技术领域

发明涉及一种背面具有至少一个凹陷或凸起的基座和一个包括这种基座的用于外延沉积的反应器。

背景技术

通常情况下，用于外延沉积反应器的基座需要在外延沉积工艺的过程中旋转。

为此，这些基座的背面可包括一个可容纳旋转轴端部的底座；且所述底座以所述基座的转轴为中心，即在旋转轴的轴线上。

在这种情况下，旋转轴的端部的形状和底座形状相同，例如都是多边形(正方形、六角形、八角形等等)，使得旋转运动从旋转轴传导到基座；端部和合适的底座之间有一个非常小的间隙(例如0.5mm)以允许端部插入作为反应器组件的底座。端部和底座经常受到各种因素影响而卡死，比如反应器操作过程中的运动，反应器操作过程中的温度变化，和反应器的操作过程中处于大气中的沉积材料。

如果基座的位置在卡死后是完全水平的，卡死不会产生严重问题。相反，如果卡死后基座有轻微倾斜，则会导致：(A)无法轻易把衬底放入或取出基座；(B)衬底在基座上不处在外延沉积的最佳位置，导致获得的沉积层不是最优。

发明内容

本发明的目的是克服已知解决方案的缺点。

本发明的目的是通过具有权利要求描述的技术特征的基座实现的。

本发明的根本思想是防止旋转轴端部卡死在基座。

本发明的另一个目的是提供一种包括所述基座、具有权利要求描述的技术特征的外延沉积反应器。

附图说明

下面结合附图对本发明做详细说明。

图1是本发明的基座和旋转轴的垂直截面的简化视图。

图2是图1的基座的简化局部底视图。

图3是图1的旋转轴端部的简化顶视图。

容易理解的是，在实践中可以有多种方式实现本发明所附的权利要求描述的主要有利方面。

具体实施方式

所有附图均指本发明的同一的实施例，其并非唯一可行的实施例。

根据本实施例，基座200和旋转轴300是外延沉积反应器1000的一部分。基座200由盘状部分220(下部)和支撑部分210(上部)构成，两者均相对于一垂直轴线Z对称(或接近对称)。支撑部分210具有一个上表面211和一个下表面213。盘状部分220具有一个上表面221和一个下表面223。支撑部分210直接且永久地放置在盘状部分220上；所述表面213与表面221接触。支撑部分210上部包括一个浅凹槽(称为“口袋”)用以支撑需要通过外延沉积过程处理的(尤其是)单个衬底100(称为“晶片”)。盘状部分220底部包括一个底座230。旋转轴300相对于垂直轴Z对称(或几乎对称)，上部包括一个固定到杆320尤其是螺纹杆320的端部330。(适当配置的)端部330与(适当配置的)底座230相配合，使得旋转运动从旋转轴300传导到基座200。

端部330包括一个中心凸起332(圆形)和四个非中心凸起333A、333B、333C、333D(圆形)。底座230包括一个中心凹陷232(圆形)和四个非中心凹陷233A、233B、233C、233D(近似圆形，但在径向方向上拉伸)。凸起332可以插入凹陷232中，凸起333A可以插入凹陷233A，凸起333B可以插入凹陷233B，凸起333C可以插入凹陷233C，凸起333D可以插入凹陷233D。

根据本实施例，特别地，旋转运动从上述旋转轴(300)到基座(200)的传导通常只由所述基座(200)的底座(230)的水平部分和所述旋转轴(300)的端部(330)的水平表面之间的摩擦导致。如果此摩擦因为基座的磁悬浮而减少或消失(在这种情况下，基座相对于旋转轴端部上升)，旋转运动从所述旋转轴(300)到基座(200)的传导通过非中心凹陷和/或非中心凸起发生；或者在旋转轴强烈加速或减速时(在这些情况下，基座由于惯性保持旋转运动)，它可以通过凹陷和/或凸起发生。

换言之，非中心凹陷和/或非中心凸起的作用仅为：(A)确保旋转运动从上述旋转轴(300)传导到基座(200)和(B)当静摩擦不足时确保基座(200)的角度定位具有合理的准确度。一般地，本发明的基座(例如200)包括至少一个非中心凹陷(例如233A)和/或至少一个非中心凸起，以确保基座的角度定位和旋转运动从旋转轴传导到基座。