[实用新型]自动晶圆保护层去除设备有效
申请号: | 201620961309.1 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN206148399U | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 杨宗霖;萧腾蛟;蔡中维 | 申请(专利权)人: | 振图科技股份有限公司;威达邦有限公司 |
主分类号: | H01L21/311 | 分类号: | H01L21/311 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙)11301 | 代理人: | 刘祖芬 |
地址: | 中国台湾桃园市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 保护层 去除 设备 | ||
1.一种自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,包括:
一晶圆乘载装置,具有一乘载平台及一旋转轴,所述乘载平台可旋转地与该旋转轴枢接;
一切割刀组,具有一固定架、一切割刀及一刀架,所述固定架对应该晶圆乘载装置接近或远离设置,该切割刀架设于该刀架上,并且该刀架与该固定架滑动组设;
一分脱机组,具有一支架,并设有多个导轮,这些导轮上绕设有至少一线材;
一底座,具有一平台及至少一滑轨组,前述切割刀组、该分脱机组对应设置于该底座的平台上,该晶圆乘载装置的乘载平台对应设置于该滑轨组上。
2.根据权利要求1所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,所述乘载平台还具有至少一吸盘。
3.根据权利要求1所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,还具有一吸盘组件,该吸盘组件具有一支撑架及多个吸盘,该吸盘组件对应该晶圆乘载装置接近或远离设置,这些吸盘对应设置于该支撑架的一端。
4.根据权利要求1所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,该晶圆乘载装置的乘载平台通过该滑轨组对应该底座做水平移动。
5.根据权利要求1所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,还具有一紫外线光照组,该紫外线光照组具有多个紫外线灯管,并将该紫外线光照组对应设置于该晶圆乘载装置上方。
6.根据权利要求3所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,该支撑架还连接一气压缸,该气压缸使这些吸盘组件接近或远离该晶圆乘载装置。
7.根据权利要求1所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,该刀架与该固定架间具有一滑轨,该刀架与该固定架相互对应滑动。
8.根据权利要求1所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,还具有一滚轮组件及一胶带组,该滚轮组件具有一滚轮支架及多个滚轮,这些滚轮彼此呈平行设置于该滚轮支架上,该滚轮组件中的这些滚轮中具有至少一主动旋转滚轮,该胶带组具有一主滚筒,该主滚筒外部缠设有多个胶带。
9.根据权利要求8所述的自动晶圆保护层去除设备,其特征在于,还具有一黏胶接触平台,该黏胶接触平台具有多个小滚轮,所述黏胶接触平台通过一滑轨组与该滚轮支架结合,该滑轨组通过一伺服马达驱动使该黏胶接触平台得以垂直上下移动,前述胶带部分绕设于这些小滚轮外缘。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造