[实用新型]一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备，属于掩膜版制造工艺中显影设备的技术领域。

背景技术

LTPS低温多晶硅技术已经成为一项发展相对完整的技术，现已广泛的应用于发光面板中，其优点是发光面板具有更大的可视角度(如应用于曲屏智能手机)，色彩还原好，画面更加逼真绚丽。该技术陆续推出的第5.5代，第6代生产线对掩膜版的图形精度要求越来越高。随着市场的需求，LTPS推出了第8.5代甚至10.5代液晶生产线，这些生产线对掩膜版尺寸要求越来越大，这就提出了对显示图形精细度要求越来越高的要求。其中，6代的TFT掩膜版尺寸为800*920*10(mm),CF掩膜版尺寸为850*1200*10(mm)；7.5代的TFT掩膜版尺寸为850*1400*10(mm),CF掩膜版尺寸为1100*1100*10(mm)；而8.5代的TFT掩膜版尺寸已经为1220*1400*13(mm),CF掩膜版尺寸已经为1300*1500*12(mm)，并且该趋势会不断的推陈出新。

在显影工艺中，显影液的化学成分已经在不断的改进从而适应市场变化的需求，而显影的方法却没有得到足够的改进。现有技术常用给的显影方法是旋转与喷射的结合，该方法对大尺寸掩膜版精度控制能力较差，难以控制中心与边缘的CD精度差异，尺寸越大，差异越明显，每个喷嘴之间的喷液压力、喷液面积以及喷液角度难以控制，显影液在掩膜版上与光刻胶反应不均匀，造成图形精度及精度均匀性的差异，同时无法再短时间内覆盖足够厚的显影液，容易出现显影液收缩，导致产生液晶MURA。

发明内容

本实用提供一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备，保证在显影工艺中出液压力、出液面积以及出液角度的一致性，在短时间内在掩膜版上覆盖一层足够厚的显影液，提高图形精度和精度均匀性。

本实用新型是通过以下的技术方案实现的：

一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备，包括可以装载掩膜版并且能够进行自身旋转的旋转载盘和两根具有朝自身长度方向延伸的狭缝出液臂，所述狭缝出液臂能够移动至所述旋转载盘的上方任意位置；所述狭缝出液臂朝向旋转载盘的一侧安装狭缝列阵，所述狭缝列阵由若干个狭缝组成。

所述每一个狭缝直径为1～10mm，狭缝圆间距为1～10mm。

所述旋转载盘具有支撑旋转轴。

本发明的有益效果为：

1.该显影装置能够保证出液压力、出液面积以及出液角度的一致性，能够适应大尺寸掩膜版的即时显影液覆盖工艺。不会出现显影液收缩，从而导致MURA。

2.图形精度高，图形精度均匀性高。

附图说明

图1-1和1-2是旋覆与狭缝液帘配合的显影设备的俯视图与侧视图

图2是狭缝出液臂具有狭缝列阵一侧的示意图

具体实施方式

以下结合附图，对本实用新型做进一步说明。

在掩膜版的制备中，显影是一个重要环节。如图1-1和1-2，分别是旋覆与狭缝液帘配合的显影设备的俯视图与侧视图。是本显影方法使用的显影设备。如图2，是狭缝出液臂具有狭缝列阵一侧的示意图。

将一定尺寸的掩膜版2装载并固定至旋转载盘1上，设置旋转载盘1至一定的旋转速度，沿着支撑旋转轴5进行旋转。控制狭缝出液臂3开始移动，从图1-1中可知，所述狭缝出液臂有两个，分别是出液臂(301,302)，通过控制主机分别沿着掩膜版2矩形对角方向向中心移动，出液臂(301,302)需移动至彼此间具有一定的重叠接触位置，从而显影液能够覆盖完全，防止显影液层不均匀，同时出液臂(301,302)的自身长度的延伸能够覆盖所述掩膜版2矩形对角线长度的延伸。在上述对于出液臂(301,302)水平方向位置调整完成后，还需要调制垂直位置，即狭缝列阵4距离掩膜版2的垂直距离。水平与垂直位置的调整使得显影液最终是平顺的流到掩膜版2的表面上，而非形成冲击或者碰撞。在出液臂(301,302)移动到位后，准备进行显影。

通过控制主机的设置，开始喷洒显影液。如图1-2可知，狭缝出液臂3通过安装在其上，朝向于掩膜版2放置方向的若干狭缝的列阵进行出显影液。本发明的显影能够即刻形成均匀的显影液帘并在足够短的时间内完全覆盖掩膜版2以达到在掩膜版上覆盖足够厚的显影液层。

为此，本方法还设置了以下参数：

旋转载盘的旋转速度：10～100RPM；

狭缝出液臂流量：10～100L/min；

每一个狭缝直径：1～10mm；

每一个狭缝圆间距：1～10mm；