[实用新型]微调系统以及空间光调制器微调系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种微调系统以及空间光调制器微调系统。

背景技术

光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。光刻技术用于在基底表面上印刷具有特征的构图的技术。这样的基底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等芯片。

在直写式光刻机的光刻系统中，特征图形由空间光调制器微镜阵列产生，这些微小镜面可以独立寻址单独受控以不同的倾斜方向反射照射的光束，以产生空间光强调制，然后将特征图形通过相应成像光路投影到PCB板上。因此对空间光调制器相对于印刷电路板(Printed Circuit Board，简称PCB板)面的位置精度要求很高，尤其是在纵向上对成像质量影响很大，而且在水平面的角度对成像的拼接影响很大。

目前，空间光调制器在纵向方面，主要是安装时调整不同厚度的垫片进行微调，在空间光调制器的水平方面，主要靠旋转镜筒进行调节。但是，样的调节方式使空间光调制器的安装和调试很不方便，由于设备对空间光调制器的位置精度要求较高，尤其是纵向方面和水平方面的内角度，单纯的靠机加工很难保证且费用较高。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种微调系统以及空间光调制器微调系统，以使空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；

直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置；

测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；直线型轨道通过固定直线轨迹控制微调设备的微调方向；第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量微调设备沿直线的微调幅度。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制微调设备的微调方向；第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量微调设备沿圆弧的微调角度。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置的微调角度范围为正负5度。

第二方面，本实用新型实施例还提供一种空间光调制器微调系统，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；

直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置；

测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；直线型轨道通过固定直线轨迹控制空间光调制器的微调方向；第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量空间光调制器沿直线的微调幅度。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第三种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制空间光调制器的微调方向；第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量空间光调制器沿圆弧的微调角度。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第四种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置的微调角度范围为正负1度。