[实用新型]蓝宝石基板研磨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及蓝宝石制造领域，特别是涉及蓝宝石基板研磨装置。

背景技术

蓝宝石的组成为氧化铝是由三个氧原子和两个铝原子以共价键型式结合，晶体结构为六方晶格结构，其具有很好的热稳定性和介电特性，且其化学惰性强、光透性能好，具有很好的耐磨性，它是一种集优良光学性能、物理性能、机械性能和化学性能于一体的多功能氧化物晶体。

为适应光电技术的发展，对蓝宝石材料的表面提出了超光滑、无损伤的要求，这样便需要对蓝宝石的表面进行研磨、抛光。一般地，进行对蓝宝石的表面研磨、抛光的工艺中，主要包括粗研磨、精细研磨、抛光等步骤。其中，抛光工艺的类型有：机械抛光、化学抛光及化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)等。

在上述研磨工艺中是利用一种蓝宝石基板研磨装置对该蓝宝石进行研磨，而蓝宝石基板研磨装置利用研磨台上所设置的研磨面对蓝宝石基板的表面进行研磨，而研磨面通常具有凹槽，随着研磨面持续地蓝宝石基板的表面研磨，蓝宝石基板研磨装置在使用一段时间后需要利用专用的刻刀对研磨面进行，以使上述凹槽进行保持一定的深度，而专用的刻刀需要厂家另外配置购买，这样无疑增加了厂家的额外开支。而有的厂家会将上述蓝宝石基板研磨装置一次性将凹槽刻的较深，而这样所会因凹槽深度较深，喷涂在研磨垫表面的浆液大部分会落入该凹槽内，这样便会造成研磨浆料的浪费。

这样有必要提出一种既无需使用专用的刻刀每隔一段时间对研磨面进行刀刻，也不浪费研磨浆料的蓝宝石基板研磨装置。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述研磨工艺中需要刻刀每隔一段时间对研磨面进行刀刻，且现有的蓝宝石基板研磨装置会造成金刚石研磨液浪费的问题，提供一种既刻刀每隔一段时间对研磨面的凹槽进行刀刻，也能够节约研磨液的蓝宝石基板研磨装置。

一种蓝宝石基板研磨装置，包括：

机架，具有转轴；

设置于所述机架上的研磨台，具有研磨面，所述研磨面用于对位于所述研磨台上的蓝宝石基板研磨；

均匀分布于所述研磨面上的凹槽；

填充于所述凹槽内的填充物，所述填充物的填充高度低于所述凹槽的深度。

上述研磨台的研磨面持续的对蓝宝石基板进行研磨，被研磨下的杂屑也会落入该凹槽内，不会影响上述研磨面对蓝宝石基板的研磨效果，而且，由于上述填充物的存在，该凹槽内的填充物的上表面与上述研磨面始终保持不大的高度差，这样便不会浪费较多的研磨浆料。另一方面，上述填充物由于它固有的特性，操作人员易于利用刮刀等工具对该填充物的表面进行刮擦，减少了作业及生产成本。

在其中一个实施方式中，所述填充物在所述凹槽内的高度与凹槽的深度差为0.2-0.4mm。

在其中一个实施方式中，所述凹槽的深度范围为3.5mm。

在其中一个实施方式中，所述填充于所述凹槽内的填充物的高度范围为3.1-3.3mm。

在其中一个实施方式中，所述凹槽呈螺旋状设置于所述研磨面上。

在其中一个实施方式中，所述凹槽的宽度为1.5mm。

在其中一个实施方式中，所述蓝宝石基板研磨装置还包括：

加压机构，用于加强所述研磨面对位于所述研磨面的蓝宝石基板的压力。

在其中一个实施方式中，所述研磨台相对于所述机架的转速为0-60rpm。

在其中一个实施方式中，所述蓝宝石基板研磨装置还包括：

位于所述研磨面上的陶瓷盘，用于带动所述蓝宝石基板相对于所述研磨面移动。

附图说明

图1为本实用新型一优选实施方式的蓝宝石基板研磨装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型一优选实施方式的蓝宝石基板研磨装置的剖面结构示意图；

图3为本实用新型一优选实施方式的蓝宝石基板研磨装置的研磨台与陶瓷盘的位置的平面结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。