[实用新型]一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种等离子体增强新型电极板技术领域，特别是涉及一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板。

背景技术

进气匀气装置和产生等离子体的电极板，对等离子体增强化学气相沉积pecvd设备的薄膜沉积质量和效率至关重要，现有的等离子体电极板存在以下问题：

1、电极板的多重密封，以及安装维修不便捷；

2、进气系统的绝缘干扰问题，影响质量流量控制器的精确度，造成进气不稳定；

3、射频电源引入导线起辉发光，影响电极板喷淋头的辉光，造成辉光区不稳定，影响电离效果；

4、喷淋头的进气腔出气不均匀。

实用新型内容

针对上述问题中存在的不足之处，本实用新型提供一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板，使其达到产生均匀的气场辉光区和高密度均匀稳定等离子体，从而使PECVD化学气相沉积设备成膜质量更高，更稳定。

为了解决上述问题，本实用新型提供一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板，其中，包括喷淋头电极板结构、电极杆结构和安装法兰，所述电极杆结构的顶端与所述喷淋头电极板结构连接，所述电极板结构上设置有安装法兰，所述喷淋头电极板结构包括喷淋头电极板、绝缘陶瓷和喷淋头屏蔽罩，所述喷淋头屏蔽罩设置在所述喷淋头电极板的外侧，所述喷淋头电极板与所述喷淋头屏蔽罩之间设置有绝缘陶瓷，所述电极杆结构包括电极杆和电极杆屏蔽套，所述电极杆屏蔽套设置在所述电极杆的外侧，所述电极杆的底部连接有绝缘陶瓷气路接头，所述绝缘陶瓷气路接头与外部进气管连接。

优选的，所述喷淋头电极板由双层不锈钢匀气腔组成，所述不锈钢匀气腔上部均匀密布直径1毫米的匀气板，所述匀气板与所述电极杆9直接连接，所述不锈钢气腔下部设置有匀气锁紧母。

优选的，所述电极杆的下端设置有保护罩，所述保护罩位于所述安装法兰的底部，所述保护罩上设置有电极插座，所述电极插座通过电极引线与所述电极杆连接，所述电极杆通过所述电极插座与外部的射频电源连接。

优选的，还包括固定套管，所述固定套管设置在所述电极杆屏蔽套的外侧，所述电极杆屏蔽罩通过所述固定套管连接到所述安装法兰上。

优选的，所述安装法兰通过螺钉结构连接在所述电极杆上，所述螺钉结构与所述电极杆屏蔽套之间设置有密封圈。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

本实用新型的喷淋头设有匀气头，可以二次匀气，使气体匀气方式更均匀，安装拆卸更便捷。同时改进电源引线连接方式，采用直连屏蔽式连接法，减小了功率损耗，只使喷淋头电极板一处起辉电离，促进成膜的稳定性，均匀性，提高成膜质量。

附图说明

图1是本实用新型的实施例结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图与实例对本实用新型作进一步详细说明，但所举实例不作为对本实用新型的限定。

如图1所示，本实用新型的实施例包括喷淋头电极板结构、电极杆结构和安装法兰6，电极杆结构的顶端与喷淋头电极板结构连接，电极板结构上设置有安装法兰6，喷淋头电极板结构包括喷淋头电极板1、绝缘陶瓷3和喷淋头屏蔽罩4，喷淋头屏蔽罩4设置在喷淋头电极板1的外侧，喷淋头电极板1与喷淋头屏蔽罩4之间设置有绝缘陶瓷3，电极杆结构包括电极杆13和电极杆屏蔽套5，电极杆屏蔽套5设置在电极杆13的外侧，电极杆13的底部连接有绝缘陶瓷气路接头9，绝缘陶瓷气路接头9与外部进气管连接。喷淋头电极板1由双层不锈钢匀气腔组成，不锈钢匀气腔上部均匀密布直径1毫米的匀气板，匀气板与电极杆13直接连接，不锈钢气腔下部设置有匀气锁紧母2。

电极杆13的下端设置有保护罩11，保护罩11位于安装法兰6的底部，保护罩11上设置有电极插座8，电极插座8通过电极引线10与电极杆13连接，电极杆13通过电极插座8与外部的射频电源连接。还包括固定套管12，固定套管12设置在电极杆屏蔽套5的外侧，电极杆屏蔽罩5通过固定套管12连接到安装法兰6上。安装法兰6通过螺钉结构连接在电极杆13上，螺钉结构与电极杆屏蔽套5之间设置有密封圈7。

本实施例中，喷淋头电极板1由双层不锈钢匀气腔组成，匀气腔上部均匀密布直径1毫米的匀气板，匀气板与电极杆9直接连接，底部有绝缘气路接头9与外部进气管连接，在喷淋头电极板1距离3毫米出安装有喷淋头屏蔽罩4，以防止其他部件起辉(除喷淋头电极板外)。