[实用新型]一种掩膜板的检查装置有效
申请号: | 201621415494.0 | 申请日: | 2016-12-22 |
公开(公告)号: | CN206400256U | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 潘超;陈兆力;曹霞 | 申请(专利权)人: | 南京熊猫电子股份有限公司;南京熊猫机电仪技术有限公司;南京熊猫信息产业有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/82 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 | 代理人: | 张耀文 |
地址: | 210002 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 检查 装置 | ||
1.一种掩膜板的检查装置,其特征在于:包括底座,所述底座是由底板和两侧的竖板(4)拼接成的U形支架,两侧竖板(4)外侧各安装有一个旋转电机(2),两个旋转电机对称安装,两个旋转电机的转轴穿过竖板(4)连接旋转框架(5),掩膜板(6)通过夹紧装置固定于旋转框架(5)上,通过旋转电机(2)带动掩膜板(6)旋转;
包括配套设置的电气控制按键板(1)和电气控制柜(3),所述电气控制按键板(1)和电气控制柜(3)连接旋转电机(2)、水平定位装置(7)和旋转限位装置(8),通过水平定位装置(7)控制掩膜板(6)的水平位置,通过旋转限位装置(8)控制掩膜板(6)的正反旋转角度。
2.根据权利要求1所述的一种掩膜板的检查装置,其特征在于:所述水平定位装置(7)包括固定架和两个第一红外线定位仪,两个第一红外线定位仪等高设置,设置的高度等于掩膜板水平放置时的高度。
3.根据权利要求1所述的一种掩膜板的检查装置,其特征在于:所述旋转限位装置(8)包括设置于一个竖板(4)上的两个第二红外线定位仪,一个第二红外线定位仪限制掩膜板(6)的正向旋转角度,一个第二红外线定位仪限制掩膜板(6)的反向旋转角度。
4.根据权利要求1所述的一种掩膜板的检查装置,其特征在于:所述旋转框架(5)由上层框架和下层框架拼接而成,两个旋转电机的转轴穿过竖板(4)连接下层框架,掩膜板(6)放置于下层框架上,通过夹紧装置将上层框架和下层框架夹紧拼接从而固定掩膜板于上层框架和下层框架之间。
5.根据权利要求4所述的一种掩膜板的检查装置,其特征在于:上层框架和下层框架均为方形外框和中间的十字形架一体化制造结构。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备