[实用新型]一种掩膜板的检查装置有效
申请号: | 201621415494.0 | 申请日: | 2016-12-22 |
公开(公告)号: | CN206400256U | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 潘超;陈兆力;曹霞 | 申请(专利权)人: | 南京熊猫电子股份有限公司;南京熊猫机电仪技术有限公司;南京熊猫信息产业有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F1/82 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 | 代理人: | 张耀文 |
地址: | 210002 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 检查 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种掩膜板搬运存储系统,具体涉及一种掩膜板的检查装置。
背景技术
目前,随着掩膜板的尺寸越来越大,重量也越来越重;在对掩膜板存储前的检查要求也日益繁重,传统的检查方式已无法满足日益发展的趋势。现有技术中,对掩膜板的检查通常采用上下升降的方式,对于检查人员进行反面检查需要一直抬头,造成不便;另一方面由于为了能够进行反面检查,其掩膜板需要升高一定的高度,存在一定的安全隐患。
发明内容
本实用新型提供一种掩膜板的检查装置,具有正反旋转方式的结构,实现对大尺寸掩膜板正反两面的宏观检查,以及对其进行简单的清洁功能。此装置用于掩膜板在入库前的宏观检查以及对发现有微小颗粒的区域进行清洗作用,以保证掩膜板的清洁和无损。
本实用新型的技术方案是:一种掩膜板的检查装置,包括底座,所述底座是由底板和两侧的竖板拼接成的U形支架,两侧竖板外侧各安装有一个旋转电机,两个旋转电机对称安装,两个旋转电机的转轴穿过竖板连接旋转框架,掩膜板通过夹紧装置固定于旋转框架上,通过旋转电机带动掩膜板旋转;
包括配套设置的电气控制按键板和电气控制柜,所述电气控制按键板和电气控制柜连接旋转电机、水平定位装置和旋转限位装置,通过水平定位装置控制掩膜板的水平位置,通过旋转限位装置控制掩膜板的正反旋转角度。
进一步的,所述水平定位装置包括固定架和两个第一红外线定位仪,两个第一红外线定位仪等高设置,设置的高度等于掩膜板水平放置时的高度。利用两个第一红外线定位仪测定水平位置,当一侧位置偏高时,调整电机高度,当掩膜板同时满足两个红外线定位仪的检测时,则保证水平定位的精准。
进一步的,所述旋转限位装置包括设置于一个竖板上的两个第二红外线定位仪,一个第二红外线定位仪限制掩膜板的正向旋转角度,一个第二红外线定位仪限制掩膜板的反向旋转角度。保证掩膜板旋转检测安全可靠。
进一步的,所述旋转框架由上层框架和下层框架拼接而成,两个旋转电机的转轴穿过竖板连接下层框架,掩膜板放置于下层框架上,通过夹紧装置将上层框架和下层框架夹紧拼接从而固定掩膜板于上层框架和下层框架之间。通过上层框架和下层框架以及夹紧装置的配合,安装拆卸方便快捷。
进一步的,上层框架和下层框架均为方形外框和中间的十字形架一体化制造结构。更加可靠的固定掩膜板,受力均匀。
本实用新型实现的有益效果是:
1、具有正反旋转方式的结构,实现对大尺寸掩膜板正反两面的宏观检查,以及对其进行简单的清洁功能。此装置用于掩膜板在入库前的宏观检查以及对发现有微小颗粒的区域进行清洗作用,以保证掩膜板的清洁和无损。旋转掩膜板,使用离子风枪进行掩膜板的两面的清洁。须可将掩膜板旋转,通过两侧清洗方式清洗掩膜板的全面。
2、采用伺服电机的驱动方式,保证翻转框架运动平稳,速度可调,控制精确。
3、翻转框架具有到位检测和超程检测。
4、系统具有误操作保护装置,保证工件翻转至水平位置,才可以松开工作
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图;
图2为本实用新型的掩膜板翻转示意图;
图3为本实用新型的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1-3所示,一种掩膜板的检查装置,包括底座,所述底座是由底板和两侧的竖板4拼接成的U形支架,两侧竖板4外侧各安装有一个旋转电机2,两个旋转电机对称安装,两个旋转电机的转轴穿过竖板4连接旋转框架5,掩膜板6通过夹紧装置固定于旋转框架5上,通过旋转电机2带动掩膜板6旋转;
包括配套设置的电气控制按键板1和电气控制柜3,所述电气控制按键板1和电气控制柜3连接旋转电机2、水平定位装置7和旋转限位装置8,通过水平定位装置7控制掩膜板6的水平位置,通过旋转限位装置8控制掩膜板6的正反旋转角度。
所述水平定位装置7包括固定架和两个第一红外线定位仪,两个第一红外线定位仪等高设置,设置的高度等于掩膜板水平放置时的高度。利用两个第一红外线定位仪测定水平位置,当一侧位置偏高时,调整电机高度,当掩膜板同时满足两个红外线定位仪的检测时,则保证水平定位的精准。
所述旋转限位装置8包括设置于一个竖板4上的两个第二红外线定位仪8,一个第二红外线定位仪限制掩膜板6的正向旋转角度,一个第二红外线定位仪限制掩膜板6的反向旋转角度。保证掩膜板6旋转检测安全可靠。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备