[实用新型]一种用于VAD沉积腔体的工艺观察窗有效

专利信息
申请号: 201621471329.7 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN206601515U 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 沈小平;王祥;蒋小强;满小忠;向德成;张峰伟 申请(专利权)人: 江苏通鼎光棒有限公司
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 代理人: 李成运
地址: 215200 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 vad 沉积 工艺 观察窗
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于光纤制造及研发技术领域,尤其是涉及一种用于VAD沉积腔体的工艺观察窗。

背景技术

光纤预制棒制造工艺方法中的轴向气相沉积法,即VAD沉积工艺,是制造芯棒的主要方法,VAD沉积工艺制造soot体,主要是通过激光束的稳定发射和有效接收来控制soot的生长,激光发射端一般布置在沉积腔体门的前面,沉积腔体门上和沉积腔体后面会布置两个工艺观察窗,即沉积前观察窗和沉积后观察窗,沉积腔体后观察窗后面会布置着激光接收端,这样一来,激光发射端发射的激光束穿过沉积腔体前观察窗,与种子棒的下端球头相切,再穿过沉积腔体后观察窗,最后到达激光接收端,整个VAD沉积工艺过程是通过激光束来控制soot的生长,所以激光束的稳定发射和接收是整个VAD工艺流程能否顺利进行的关键;此外,沉积腔体的密封性好坏又是腔体抽风压力是否稳定的重要因素,进而也会影响整个soot成长过程;在VAD沉积工艺过程中发现观察窗玻璃温度过高以及大量SiO2颗粒吸附在观察玻璃上而导致的激光发射端发射的激光,接收端无法准确接收的问题始终存在;所以,如何保证观察玻璃温度在一个适当范围和其表面的透明度,使得整个沉积工艺过程中,激光发射端发射的激光,接收端都能够稳定接收,保证整个沉积工艺过程顺利完成就显得尤为重要和必要。

发明内容

有鉴于此,本实用新型旨在提出一种用于VAD沉积腔体的工艺观察窗,确保在整个VAD沉积过程中,激光发射端发射的激光,接收端都能够稳定接收,保证整个沉积工艺过程顺利完成。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种用于VAD沉积腔体的工艺观察窗,包括观察窗本体及观察窗本体一侧设置的玻璃压板、另一侧设置的玻璃冷却板;所述观察窗本体包括玻璃固定板和玻璃固定板上安装的观察玻璃;所述玻璃冷却板上设有环形的导流沟槽,所述玻璃压板上安装有吹扫装置,所述导流沟槽与所述吹扫装置的送气口相通,在玻璃冷却板上设有与导流沟槽相通的若干进气孔,各个进气孔的吹气方向均朝向所述观察玻璃;所述玻璃冷却板上设有用于与沉积腔体门密封的第一密封件;所述玻璃压板上设有用于与所述玻璃固定板之间密封的第二密封件、以及用于与所述观察玻璃之间密封的第三密封件。

进一步,吹扫装置包括环绕所述玻璃压板圆周方向设置的气管,气管上设有进气口和数个送气口;送气口以所述观察玻璃中心为中心均布设置。

进一步,所述第一密封件、第二密封件以及第三密封件均为O型密封圈。

进一步,所述第一密封件为氟橡胶O型圈。

进一步,所述进气孔沿所述导流沟槽均布设置。

进一步,所述玻璃冷却板采用6061铝合金板。

进一步,所述气管的进气口处设有流量计和开关控制阀。

进一步,所述玻璃固定板上设有用于安装所述观察玻璃的阶梯沉槽。

相对于现有技术,本实用新型具有以下优势:

本实用新型结构简单,设计合理,在整个VAD沉积过程中,确保了腔体密封性的同时,观察窗中通入氮气,持续的对观察玻璃冷却,保证其温度在一个适当的范围,同时,随时吹走即将吸附在玻璃上的SiO颗粒,避免其大量堆积,保证观察玻表面的透明度,使得整个沉积工艺过程中,激光发射端发射的激光,接收端都能够稳定接收,保证整个沉积工艺过程顺利完成。

附图说明

构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1为本实用新型的平面结构分解示意图;

图2为本实用新型的结构剖视图;

图3为本实用新型的立体结构分解示意图;

图4为本实用新型中玻璃压板的结构示意图;

图5为本实用新型中玻璃冷却板的结构示意图;

图6为本实用新型中玻璃固定板的结构示意图。

附图标记说明:

1-玻璃冷却板;2-第一密封件;3-玻璃固定板;4-观察玻璃;5-第二密封件;6-第三密封件;7-玻璃压板;8-导流沟槽;9-吹扫装置;10-送气口;11-进气孔;12-气管;13-进气口;15-密封凹槽;16-第二密封件密封槽;17-第三密封件密封槽。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

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