[实用新型]匀胶显影设备异常监控系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及设备运行条件的监控领域，更具体地，涉及一种用于匀胶显影设备的监控系统。

背景技术

在晶圆的制造过程中，晶体三极管、二极管、电容、电阻、金属层等多个物理部件是在一个掩膜层上形成的，结合生成薄膜以及去除特定部分，通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留特征图形的部分。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。其中，在涂光刻胶、显影等工序中需要用到匀胶显影设备。

匀胶显影设备在使用过程中，如果光刻胶状态、显影液状态等工作条件出现异常时，设备将无法正常工作，因此，可以设置一套用于监控匀胶显影设备的工作条件的监控系统。

图1示出现有的用于匀胶显影设备的监控系统的示意图。多个传感器120通过信号线连接至匀胶显影设备130上，匀胶显影设备130上安装有起报警提示作用的提示装置140，提示装置140可以是报警灯和嗡鸣器。多个传感器120对应于匀胶显影设备130工作的多个不同工作条件。当上述工作条件出现异常时，提示装置140发出报警提示。

在上述系统中，当任一个工作条件发生异常，设备产生异常报警时，需要操作人员主动去检查是哪一个工作条件发生了异常。同时，在技术人员查找异常原因时，由于没有记录相应的异常报警信息，给异常分析带来诸多不便。

因此，期望对用于匀胶显影设备的监控系统进行进一步优化。

实用新型内容

鉴于上述问题，本实用新型的目的在于提供一种匀胶显影设备异常监控系统，该监控系统能记录工作条件的异常信息，方便异常分析。

根据本实用新型提供一种匀胶显影设备异常监控系统，该监控系统包括：依次连接的传感器、主控装置以及提示装置，所述传感器用于将工作条件的异常转化为输入信号，所述主控装置包括：传感信号传递模块；微处理器，通过所述传感信号传递模块与所述传感器连接，所述输入信号通过所述传感信号传递模块传至所述微处理器，所述微处理器用于根据所述输入信号得出输出信号；以及存储模块，用于根据所述输入信号记录工作条件的异常信息，所述提示装置用于根据所述输出信号发出提示。

优选地，所述传感器为多个，包括：光刻胶异常检测传感器、显影液异常检测传感器、去边液异常检测传感器、漏液异常检测传感器、废胶桶异常检测传感器以及胶泵异常检测传感器。

优选地，所述传感信号传递模块为第一光耦电路，所述传感器未检测到工作条件的异常，所述输入信号使得所述第一光耦电路断开；所述传感器检测到工作条件的异常，所述输入信号使得所述第一光耦电路导通，所述微处理器得出输出信号。

优选地，所述微处理器通过第二光耦电路与所述提示装置信号连接。

优选地，所述提示装置为报警灯和/或嗡鸣器。

优选地，所述主控装置还包括：实时时钟模块，用于提供实时时钟数据。

优选地，所述异常信息包括：异常的工作条件的类别、异常次数以及异常发生时间。

优选地，所述主控装置还包括：显示模块，用于显示所述异常信息。

优选地，所述主控装置还包括：按键模块，与所述微处理器信号连接，用于提供人机交互，同时用于终止所述提示装置发出的提示。

优选地，所述主控装置还包括：串口通讯模块，将所述主控装置与计算机连接。

根据本实用新型的监控系统，能提示匀胶显影设备的工作条件异常，主控装置包括的存储模块能记录工作条件的异常信息，从而在设备发出异常提示时更方便对异常的分析。

在优选的实施例中，所述传感器为多个，包括：光刻胶异常检测传感器、显影液异常检测传感器、去边液异常检测传感器、漏液异常检测传感器、废胶桶异常检测传感器以及胶泵异常检测传感器。当设备发出异常提示时，能够更准确快速判断出是哪个工作条件发生了异常，方便设备的恢复。

在优选的实施例中，所述微处理器通过第一光耦电路与所述传感器信号连接，所述微处理器通过第二光耦电路与所述提示装置信号连接，利用光耦电路的隔离效果，消除外界信号对微处理器的干扰。

在优选的实施例中，主控装置还包括实时时钟模块，用于提供实时时钟数据。主控装置还包括显示模块，用于显示所述异常信息。异常信息可以包括：异常的工作条件的类别、异常次数以及异常发生时间。当多种条件异常发生时，存储模块逐一记录报警发生时间以及其他异常信息，并且显示在显示模块上。通过显示模块查询历史异常信息，方便异常制品追踪和异常原因分析。

附图说明