[实用新型]硅片清洗机烘道结构

权利要求书

1.一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道(1)、输送链(2)，所述输送链(2)设置在烘道(1)内，硅片篮(3)放置在输送链(2)上，其特征在于：所述烘道(1)包括依次相连的第一烘道(101)和第二烘道(102)，所述第一烘道(101)内设置有热辐射电加热装置(4)，所述第二烘道(102)顶部设有出风口(5)，所述出风口(5)与负压风机(6)相连，所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层(7)、空气层(8)和保温层(9)。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第二烘道(102)的长度大于第一烘道(101)的长度。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述防火层(7)由岩棉夹芯板构成。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述保温层(9)由网洞状板材构成，所述网洞状板材的网洞内填充有保温棉。

5.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的内壁上均设有防火涂层。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的连接处设有隔热保温墙(10)，所述隔热保温墙(10)的下部具有用于硅片篮(3)通过的开口。

7.根据权利要求6所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述隔热保温墙(10)包括三层结构，由第一烘道向第二烘道方向依次为防火层(7)、空气层(8)和保温层(9)。