[发明专利]光学衰减器及其制造方法

说明书

一种光学衰减器和/或光学终止器(100‑500)及其制造方法，光学衰减器和/或光学终止器(100‑500)包括具有两个区域的光学通道(101、401)，所述两个区域具有不同的光学性质，例如光学吸收性较小的未掺杂硅区域和光学吸收性较大的掺杂硅区域。也可使用其它材料。两个区域之间的界面处的小平面(122‑422、424)相对于通道(101、401)的纵向轴线(124)以非垂直角度定向。该角度可以配置成减少背向反射。可在不同对的区域之间包括多个小平面(122‑422、424)。该装置可进一步包括弯曲段(610)和/或渐缩段(512、612)以进一步便于衰减和/或光学终止。

相关申请的交叉引用

本申请要求2015年08月05日提交的申请号为14/818,453、标题为“光学衰减器及其制造方法”的美国非临时专利申请的优先权和权益，该申请如同其全文再现一般以引用方式结合在本文中。

技术领域

本公开涉及光子学领域，并且更具体地涉及一种在集成光子电路环境中使用的光学衰减器。

背景技术

光子电路是包括用于提供太比特范围中的高速数据传输的光学技术的集成装置。该电路可以包括利用纳米级波长的数百个光学部件。光子电路可以在包括电信和数据计算的许多应用中采用。

发明内容

本公开的实施例的目的是提供一种用于减少光子电路中的背向反射的光学衰减器。

根据本公开中描述的实施例，提供一种包括具有纵向轴线的通道的光学衰减器。该通道具有第一部分，该第一部分与第二部分接触以在其间限定小平面，其中该小平面至少部分地相对于该纵向轴线以非垂直角度定向。

根据本公开中描述的实施例，提供一种用于制造光学衰减器的方法，该方法包括：选择性地蚀刻半导体晶片以限定通道；以及向该通道的第二部分中植入掺杂剂以在该第二部分与第一部分之间限定小平面，该小平面至少部分地相对于该通道的纵向轴线以非垂直角度定向。

根据本公开中描述的实施例，提供一种光学衰减器，该光学衰减器包括：具有纵向轴线的第一部分；以及第二部分，该第二部分共享该第一部分的纵向轴线、具有不同于该第一部分的光学性质并且在相对于该纵向轴线以非垂直角度定向的小平面处与该第一部分接触。

附图说明

根据以下的具体实施方式并结合附图，本公开的进一步特征和优点将变得显而易见，其中：

图1(a)是根据一实施例的光学衰减器的平面图。

图1(b)是图1(a)中的光学衰减器的透明透视图。

图1(c)示出根据一实施例的图1(a)至图1(b)中的光学衰减器的操作。

图1(d)是根据一实施例的模拟图1(a)至图1(b)中的光学衰减器对背向反射的潜在减少作为小平面角的函数的曲线图。

图2是根据另一实施例的光学衰减器的透明透视图。

图3是根据又一实施例的光学衰减器的透明透视图。

图4(a)是根据又一实施例的包括两个小平面的光学衰减器的平面图。

图4(b)示出根据一实施例的图4(a)中的光学衰减器的操作。

图4(c)示出根据一实施例的替代性光学衰减器。

图5是根据又一实施例的包括弯曲部和渐缩部(taper)的光学衰减器的平面图。

图6是根据又一实施例的包括弯曲段的光学衰减器的平面图。

图7是示出根据一实施例的用于制造光学衰减器的方法的流程图。

将注意的是，在整个附图中，相同特征是由相同附图标记来识别的。