[发明专利]用于向浇注室中注入熔体的设备和用于向浇注室中注入熔体的方法

权利要求书

1.用于向浇注室(50)中注入熔体(60)以进行压铸的设备(10)，包括具有内部容积(26)的中间容器(20)，所述内部容积(26)能够被熔体(60)填充，其特征在于，所述中间容器(20)能够在浇注室(50)中可倒退地设置在浇注室(50)的内表面(51)上方，所述中间容器(20)具有用于向浇注室(50)中注入熔体(60)的排出口(21)和用于打开和封闭排出口(21)的封闭体(27)；所述封闭体(27)构造为用于打开和封闭排出口(21)的阀体(30)，所述阀体(30)在第一位置(33)中封闭排出口(21)并且在第二位置(34)中释放排出口(21)；所述阀体(30)在其下端部上具有凹腔状成形部，当所述阀体(30)设置在该设备(10)中时，该凹腔状成形部位于内部容积(26)之外。

2.根据权利要求1所述的设备(10)，其特征在于，所述中间容器(20)和/或内部容积(26)构造成漏斗形的。

3.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，所述阀体(30)具有接触突出部(31)，该接触突出部(31)从中间容器(20)突出并且构造用于接触浇注室(50)的内表面(51)，其中，通过所述接触，所述阀体(30)能够从其第一位置(33)被带到其第二位置(34)中。

4.根据权利要求3所述的设备(10)，其特征在于，所述接触突出部(31)从排出口(21)突出。

5.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，设有弹性元件(40)，所述弹性元件的力朝所述阀体的第一位置(33)的方向作用于阀体(30)。

6.根据权利要求5所述的设备(10)，其特征在于，所述弹性元件(40)是弹簧(41)。

7.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，所述凹腔状成形部构造成欧米伽状。

8.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，在所述排出口(21)上设置阀座环(22)，并且所述阀体(30)具有用于接触阀座环(22)的接触锥体(32)。

9.根据权利要求8所述的设备(10)，其特征在于，所述接触锥体(32)是角度约为5°的接触锥体。

10.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，所述阀体(30)可线性移动地支承在支承装置(23)中。

11.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，所述中间容器(20)固定地设置在浇注槽(24)上，所述中间容器(20)能够通过浇注槽(24)进行填充并且能够与浇注槽(24)一起转动以便设置在浇注室(50)的内表面(51)上方。

12.根据权利要求11所述的设备(10)，其特征在于，所述中间容器(20)和/或浇注槽(24)构造成封闭的。

13.根据权利要求12所述的设备(10)，其特征在于，所述中间容器(20)和/或浇注槽(24)至少部分地能够被保护气体填充。

14.根据权利要求13所述的设备(10)，其特征在于，所述保护气体是氩气。

15.根据权利要求1或2所述的设备(10)，其特征在于，所述中间容器(20)具有用于限制熔体(60)在内部容积(26)中的液位(61)的溢流口(25)。