[发明专利]电磁波遮蔽片、电磁波遮蔽性配线电路基板及电子机器有效
申请号: | 201680005082.6 | 申请日: | 2016-02-24 |
公开(公告)号: | CN107409483B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 早坂努;松沢孝洋;小林英宣;井上翔太;阪口豪 | 申请(专利权)人: | 东洋油墨SC控股株式会社;东洋科美株式会社 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;H05K1/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本东京中*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电磁波 遮蔽 性配线电 路基 电子 机器 | ||
1.一种电磁波遮蔽片,其是包含层叠体的电磁波遮蔽片,所述层叠体遮蔽释放电磁波的组件的至少一部分,且
所述层叠体包括:
粘接层,配置于所述组件上且通过进行接合处理而与所述组件接合;
导电层,层叠于所述粘接层上;及
绝缘层,形成于所述导电层上;
所述粘接层包含以下II作为粘合剂成分,
II:热硬化性树脂及与所述热硬化性树脂相对应的硬化性化合物,
在所述粘接层的热硬化后的被膜Y中,氮原子数相对于碳原子数的比例为1%~10%,且氧原子数相对于碳原子数的比例为3%~20%,
所述粘接层进而含有导电性填料而显示异向导电性,
将所述粘合剂成分进行热压接处理后的被膜X满足以下的i及ii,
i、相对介电常数在频率1GHz、23℃下为1~3,
ii、介电损耗正切在频率1GHz、23℃下为0.0001~0.02。
2.根据权利要求1所述的电磁波遮蔽片,其中热硬化性树脂包含含羧基的树脂,
硬化性化合物包含环氧化合物,进而包含有机金属化合物及异氰酸酯化合物的至少一者。
3.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中所述接合处理后的所述粘接层的厚度为3μm~50μm。
4.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电性填料选自球状粒子及树枝状粒子的至少一者。
5.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中硬化性化合物含有有机金属化合物。
6.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电层为金属层。
7.一种电磁波遮蔽片,其是包含层叠体的电磁波遮蔽片,所述层叠体遮蔽释放电磁波的组件的至少一部分,且
所述层叠体包括:
粘接层,配置于所述组件上且通过进行接合处理而与所述组件接合;
导电层,层叠于所述粘接层上;及
绝缘层,形成于所述导电层上;
所述粘接层包含以下II作为粘合剂成分,
II:热硬化性树脂及与所述热硬化性树脂相对应的硬化性化合物,
所述粘接层的热硬化后的被膜Y包含选自羧基及羟基中的至少任一种基,
在包含所述羧基的情况下,羧基数相对于碳数的比例为0.01%~15%的范围,
在包含所述羟基的情况下,羟基数相对于碳数的比例为0.5%~20%的范围,
所述羧基数与羟基数的合计相对于碳数为35%以下,
所述粘接层进而含有导电性填料而显示异向导电性,
将所述粘合剂成分进行热压接处理后的被膜X满足以下的i及ii,
i、相对介电常数在频率1GHz、23℃下为1~3,
ii、介电损耗正切在频率1GHz、23℃下为0.0001~0.02。
8.根据权利要求7所述的电磁波遮蔽片,其中热硬化性树脂包含含羧基的树脂,
硬化性化合物包含环氧化合物,进而包含有机金属化合物及异氰酸酯化合物的至少一者。
9.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中所述接合处理后的所述粘接层的厚度为3μm~50μm。
10.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电性填料选自球状粒子及树枝状粒子的至少一者。
11.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中硬化性化合物含有有机金属化合物。
12.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电层为金属层。
13.一种电磁波遮蔽性配线电路基板,其是在配线电路基板上接合有根据权利要求1至12中任一项所述的电磁波遮蔽片。
14.一种电子机器,其是在配线电路基板上接合有根据权利要求1至12中任一项所述的电磁波遮蔽片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东洋油墨SC控股株式会社;东洋科美株式会社,未经东洋油墨SC控股株式会社;东洋科美株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680005082.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。