[发明专利]电磁波遮蔽片、电磁波遮蔽性配线电路基板及电子机器有效

专利信息
申请号: 201680005082.6 申请日: 2016-02-24
公开(公告)号: CN107409483B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 早坂努;松沢孝洋;小林英宣;井上翔太;阪口豪 申请(专利权)人: 东洋油墨SC控股株式会社;东洋科美株式会社
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H05K1/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本东京中*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电磁波 遮蔽 性配线电 路基 电子 机器
【权利要求书】:

1.一种电磁波遮蔽片,其是包含层叠体的电磁波遮蔽片,所述层叠体遮蔽释放电磁波的组件的至少一部分,且

所述层叠体包括:

粘接层,配置于所述组件上且通过进行接合处理而与所述组件接合;

导电层,层叠于所述粘接层上;及

绝缘层,形成于所述导电层上;

所述粘接层包含以下II作为粘合剂成分,

II:热硬化性树脂及与所述热硬化性树脂相对应的硬化性化合物,

在所述粘接层的热硬化后的被膜Y中,氮原子数相对于碳原子数的比例为1%~10%,且氧原子数相对于碳原子数的比例为3%~20%,

所述粘接层进而含有导电性填料而显示异向导电性,

将所述粘合剂成分进行热压接处理后的被膜X满足以下的i及ii,

i、相对介电常数在频率1GHz、23℃下为1~3,

ii、介电损耗正切在频率1GHz、23℃下为0.0001~0.02。

2.根据权利要求1所述的电磁波遮蔽片,其中热硬化性树脂包含含羧基的树脂,

硬化性化合物包含环氧化合物,进而包含有机金属化合物及异氰酸酯化合物的至少一者。

3.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中所述接合处理后的所述粘接层的厚度为3μm~50μm。

4.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电性填料选自球状粒子及树枝状粒子的至少一者。

5.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中硬化性化合物含有有机金属化合物。

6.根据权利要求1或2所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电层为金属层。

7.一种电磁波遮蔽片,其是包含层叠体的电磁波遮蔽片,所述层叠体遮蔽释放电磁波的组件的至少一部分,且

所述层叠体包括:

粘接层,配置于所述组件上且通过进行接合处理而与所述组件接合;

导电层,层叠于所述粘接层上;及

绝缘层,形成于所述导电层上;

所述粘接层包含以下II作为粘合剂成分,

II:热硬化性树脂及与所述热硬化性树脂相对应的硬化性化合物,

所述粘接层的热硬化后的被膜Y包含选自羧基及羟基中的至少任一种基,

在包含所述羧基的情况下,羧基数相对于碳数的比例为0.01%~15%的范围,

在包含所述羟基的情况下,羟基数相对于碳数的比例为0.5%~20%的范围,

所述羧基数与羟基数的合计相对于碳数为35%以下,

所述粘接层进而含有导电性填料而显示异向导电性,

将所述粘合剂成分进行热压接处理后的被膜X满足以下的i及ii,

i、相对介电常数在频率1GHz、23℃下为1~3,

ii、介电损耗正切在频率1GHz、23℃下为0.0001~0.02。

8.根据权利要求7所述的电磁波遮蔽片,其中热硬化性树脂包含含羧基的树脂,

硬化性化合物包含环氧化合物,进而包含有机金属化合物及异氰酸酯化合物的至少一者。

9.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中所述接合处理后的所述粘接层的厚度为3μm~50μm。

10.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电性填料选自球状粒子及树枝状粒子的至少一者。

11.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中硬化性化合物含有有机金属化合物。

12.根据权利要求7或8所述的电磁波遮蔽片,其中所述导电层为金属层。

13.一种电磁波遮蔽性配线电路基板,其是在配线电路基板上接合有根据权利要求1至12中任一项所述的电磁波遮蔽片。

14.一种电子机器,其是在配线电路基板上接合有根据权利要求1至12中任一项所述的电磁波遮蔽片。

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