[发明专利]防反射光学部件在审
申请号: | 201680005714.9 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN107110997A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 安田英纪;松野亮;谷武晴 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111;B32B7/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 光学 部件 | ||
1.一种防反射光学部件,其为用于防止基材的反射的防反射结构,
具有电介质层、超低折射率层及所述基材依次层叠而成的层叠结构,
所述超低折射率层具有超材料结构,所述超材料结构中,在主体介质中含有尺寸小于防止反射的光的波长λ的客体,
所述超低折射率层的折射率的实部n2满足n2<1,
所述超低折射率层的物理厚度d2满足下述式1,
所述电介质层满足下述式2;
d2<λ/10……式1
M-λ/8<n1×d1<M+λ/8……式2
M=(4m+1)×λ/8……式3
d1表示所述电介质层的物理厚度,n1表示所述电介质层的折射率的实部,m表示0以上的整数。
2.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,
所述电介质层为最外层。
3.根据权利要求1或2所述的防反射光学部件,其中,
所述超低折射率层的折射率的虚部k2为2以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的防反射光学部件,其中,
所述超材料结构为单层。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的防反射光学部件,其中,
所述客体为扁平状或杆状。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的防反射光学部件,
所述防反射光学部件是所述客体为金属粒子且所述金属粒子分散于所述主体介质中的结构。
7.根据权利要求6所述的防反射光学部件,其中,
所述金属粒子包含金、银、铂、铜、铝或含有这些中的一种以上的合金。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的防反射光学部件,其中,
所述防止反射的光的波长λ为400~700nm。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的防反射光学部件,其中,
所述防止反射的光的波长λ超过700nm且为2500nm以下。
10.一种防反射光学部件的制造方法,其为权利要求1至9中任一项所述的防反射光学部件的制造方法,
所述制造方法包括通过光刻法制造所述超材料结构的工序。
11.一种防反射光学部件的制造方法,其为权利要求1至9中任一项所述的防反射光学部件的制造方法,
所述制造方法包括通过自组织化法制造所述超材料结构的工序。
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