[发明专利]防反射光学部件在审
申请号: | 201680005714.9 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN107110997A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 安田英纪;松野亮;谷武晴 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111;B32B7/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 光学 部件 | ||
技术领域
本发明涉及一种防反射光学部件。更详细而言,涉及一种用于防止基材的反射的防反射光学部件。
背景技术
作为防反射光学部件,已知有具有电介质多层膜或防反射膜的光学部件,所述防反射膜在多层膜中具备包括金属微粒层的可见光波长吸收层。例如,专利文献1中记载有多层结构,其依次具有含金属粒子层、折射率为n1的层A及折射率为n2的层B,并且满足下述条件(1-1)或(2-1)中的任一条件。
条件(1-1):满足n1<n2,且下述式(1-1)。
式(1-1)
λ/4+mλ/2<n1×d1<λ/2+mλ/2
(式(1-1)中,m表示0以上的整数,λ表示欲防止反射的波长(单位:nm),n1表示层A的折射率,d1表示层A的厚度(单位:nm)。)
条件(2-1):满足n1>n2,且下述式(2-1)。
式(2-1)
0+mλ/2<n1×d1<λ/4+mλ/2
(式(2-1)中,m表示0以上的整数,λ表示欲防止反射的波长(单位:nm),n1表示层A的折射率,d1表示层A的厚度(单位:nm)。)
专利文献1提供一种能够抑制欲防止反射的波长λ下的反射光的多层结构,其为具备金属微粒层、具有特定的膜厚和折射率的层A、层B的多层结构。
为了得到充分的防反射效果,提出有在比最外层靠内侧的前一层含有吸收材料的防反射光学部件。例如,专利文献2中记载有一种防反射膜,在基材膜上涂布多个薄膜而成的防反射膜中,比最远离基材膜的最外层靠基材膜侧的前一层具有光的吸收性。作为专利文献2的优选方式,记载有如下:在基材膜上涂布多个薄膜而成的防反射膜中,比最远离基材膜的最外层靠基材膜侧的前一层具有光的吸收性,最外层的折射率为1.49~1.52,比最外层靠基材膜侧的前一层的折射率实部为1.45~1.85,比最外层靠基材膜侧的前一层的折射率实部与最外层的折射率实部之差为0.09以下,比最外层向基材膜侧靠近与1层相当的量的层在波长550nm下的消光系数k为0.1<k<5。根据专利文献2,记载有通过这种结构,提供一种反射率较低且耐擦伤性也优异的防反射膜。
非专利文献1中记载有通过在主体介质中含有尺寸小于光的波长λ的客体的超材料来控制折射率。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2014-046597号公报
专利文献2:国际公开WO2004/031813
非专利文献
非专利文献1:Advanced Optical Materials Volume 3,pages 44-48(2015)
发明内容
发明要解决的技术课题
专利文献1是用于为了提高热射线屏蔽剂的透射率而抑制含金属粒子层的反射的结构,作为其课题并没有举出防止基材的反射。本发明人等对专利文献1中所记载的防反射光学部件的性能进行了研究,其结果得知不具备空气/电介质层/超低折射率层/基材顺序的层叠结构,并不能防止基材的反射。
并且,本发明人等对专利文献2中所记载的防反射光学部件的性能进行了研究,其结果得知是显示不出足够低的反射率的防反射光学部件。
非专利文献1中未提及使用超材料来制作防反射光学部件的层叠结构。
本发明要解决的技术课题在于提供一种用于防止基材的反射的防反射光学部件。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究,其结果发现通过设为如下,即,电介质层、超低折射率层及基材依次层叠而成的层叠结构,且超低折射率层为小于波长的超材料结构,超低折射率层的折射率的实部和物理厚度在特定的范围以下,电介质层的光学厚度在特定的范围,由此能够以新型的光学设计来防止基材的反射。另外,国际公开WO2004/031813中未公开折射率的实部小于1的情况。
用于解决上述课题的具体方法即本发明及本发明的优选方式如下。
[1]一种防反射光学部件,其为用于防止基材的反射的防反射结构,
具有电介质层、超低折射率层及基材依次层叠而成的层叠结构,
超低折射率层具有超材料结构,所述超材料结构中,在主体介质中含有尺寸小于防止反射的光的波长λ的客体,
超低折射率层的折射率的实部n2满足n2<1,
超低折射率层的物理厚度d2满足下述式1,
电介质层满足下述式2;
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