[发明专利]Mn-Zn-W-O类溅射靶材及其制造方法

说明书

提供Mn‑Zn‑W‑O类溅射靶材中耐裂性优异的溅射靶材及其制造方法。本发明的Mn‑Zn‑W‑O类溅射靶材的特征在于，在成分组成中含有Mn、Zn、W和O，在前述溅射靶材的X射线衍射中，来源于仅由Mn和O构成的锰氧化物的峰的最大峰强度P_MnO与来源于W的峰的最大峰强度P_W之比P_MnO/P_w为0.027以下。

关联申请的交叉引用

本申请主张日本国专利申请2015-013577号(2015年1月27日申请)的优先权，该申请的公开内容整体并入到本文中用于参照。

技术领域

本发明涉及Mn-Zn-W-O类溅射靶材及其制造方法，尤其涉及适合用于形成光信息记录介质的记录层的Mn-Zn-W-O类溅射靶材及其制造方法。

背景技术

使Ar离子等撞击由合金或烧结体构成的溅射靶材的溅射法在玻璃涂层、半导体元件制造、平板显示器制造、光信息记录介质(记录型光盘)的记录层形成等广泛的技术领域中进行。

这些之中，例如光信息记录介质的技术领域中，伴随着处理数据的增大，日益要求大容量化。在此，光信息记录介质大致区分为只读型和记录型，其中记录型可以区分为一次写入型和可擦写型这2类。作为一次写入型光盘的记录层材料，以往广泛研究了有机色素材料，但是随着近年的大容量化，无机材料也逐渐被广泛研究。

现状是，作为一次写入型光盘的无机类记录层材料，钯氧化物类材料被实用化，但是，Pd是稀有金属，因此材料成本高，而作为以廉价的材料成本得到充分良好的记录特性的材料，开发了锰氧化物类材料。

作为由这样的锰氧化物类材料构成的记录层，专利文献1中提出了由材料：Mn-W-Zn-O构成的Mn类记录层。而且，在专利文献1中，作为将上述Mn类记录层成膜的具体方法，公开了在Ar气体和O₂气体的混合气体气氛下对Mn靶材、Cu靶材、W靶材和Zn靶材进行共溅射(多元溅射)。通过使用专利文献1所述的技术，在不使用稀有金属Pd的情况下实现了由材料：Mn-W-Zn-O构成的Mn类记录层。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公布第2013/183277号。

发明内容

发明要解决的课题

在此，作为通过溅射法形成如由前述的材料：Mn-W-Zn-O构成的Mn类记录层那样含有多种元素的层的方法之一，可举出如专利文献1中所公开的那样，溅射由各自的元素构成的多个靶材的多元溅射法。此外，还有将含有多个元素的1片复合靶材作为单一靶材进行溅射的方法。多元溅射法中不仅装置大型化而成为成本上升的主要原因，而且存在容易产生组成偏差的缺点；因此以量产化的观点优选使用复合靶材。

作为用于制作信息记录介质的溅射靶材，上列的专利文献1提出了包含Mn的氧化物、且上述Mn的氧化物的部分或全部以Mn的价数低于+4的氧化物状态存在的靶材，还提出了，该靶材中，以上述氧化物状态存在的Mn的氧化物优选为不发生热分解的Mn₃O₄。此外，还提出了，该靶材还可以包含除Mn以外的金属或该金属的氧化物，上述金属为选自Sn、Zn、Bi、Ge、Co、W、Cu和Al的1种以上。

然而，专利文献1中并未提及具体的Mn-Zn-W-O类复合溅射靶材。迄今尚未确立在成分组成中包含Mn、Zn、W和O的Mn-Zn-W-O类复合溅射靶材。

于是，本发明的目的在于提供Mn-Zn-W-O类溅射靶材及其制造方法。

用于解决课题的手段