[发明专利]溅射性优异的Ni系靶材在审
| 申请号： | 201680006203.9 | 申请日： | 2016-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN107250424A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 宇野未由纪;长谷川浩之 | 申请（专利权）人： | 山阳特殊制钢株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/738;G11B5/851;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 优异 ni 系靶材 | ||
1.一种Ni系溅射靶材，其特征在于，是含有(NiX－FeY－CoZ)－M合金而成的Ni系溅射靶材，
在此，X表示Ni的含量对于Ni、Fe和Co的合计含量的比率，Y表示Fe的含量对于Ni、Fe和Co的合计含量的比率，Z表示Co的含量对于Ni、Fe和Co的合计含量的比率，
所述合金中，
作为M元素，含有从W、Mo、Ta、Cr、V、Nb中选择的一种或两种以上的M1元素合计2～20at.％；从Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru中选择的一种或两种以上的M2元素合计0～10at.％，
余量由Ni、Fe、Co及不可避免的杂质构成，并且，
X+Y+Z＝100时，20≤X≤98，0≤Y≤50，0≤Z≤60，并且，
所述合金具备具有Ni－M相作为基体相的微观组织，即在所述基体相中分散有Fe相和/或Co相的所述微观组织。
2.根据权利要求1所述的Ni系溅射靶材，其特征在于，所述合金含有Fe和Co合计1.5at.％以上。
3.根据权利要求1或2所述的Ni系溅射靶材，其特征在于，所述合金中，作为M元素，含有合计高于0at.％且为10at.％以下的从Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru中选择的一种或两种以上的M2元素。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的Ni系溅射靶材，其特征在于，含有fcc或hcp相的Co。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的Ni系溅射靶材，其特征在于，含有fcc或bcc相的Fe。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的Ni系溅射靶材，其特征在于，漏磁通为10％以上。
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