[发明专利]用于取决于方向地测量光学辐射源的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的方法和测角辐射计

权利要求书

1.一种用于取决于方向地测量光学辐射源(2)的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的测角辐射计，包括：

-用于使光学辐射源(2)在测量操作过程中绕第一轴(31)移动且绕垂直于该第一轴(31)的第二轴(32)移动的装置；

-漫反射的平面测量壁(5)，在该平面测量壁上反射来自所述光学辐射源(2)的光；以及

-具有光学单元(8)和二维传感器芯片(100)的位置固定且不可移动的相机(7)，

-其中，相机(7)被布置成检测在平面测量壁(5)上反射的光，其中所反射的光从相机(7)的光学单元(8)成像到相机(7)的传感器芯片(100)上，

-并且其中，传感器芯片(100)在测量操作过程中在光学辐射源(2)转动的同时记录测量值，所述测量值表示大致在围绕光学辐射源(2)的辐射重心的球形表面上的照明技术或辐射测量学特征量，

其中，还在平面测量壁(5)上设置一开口(51)并提供传感器(1')，该传感器被布置成使得来自光学辐射源(2)的光通过所述开口(51)直接照亮该传感器(1')，所述测角辐射计包括根据由该传感器(1')检测到的信号校准传感器芯片(100)的装置。

2.根据权利要求1所述的测角辐射计，其特征在于，所述平面测量壁(5)位于光学辐射源(2)的光分布的远场内。

3.根据权利要求1所述的测角辐射计，其特征在于，至少一个成像透镜(9)或至少一个成像透镜系统使由所述光学辐射源(2)发射的光束路径聚焦或使其更加会聚，并且所述成像透镜或成像透镜系统布置在光学辐射源(2)和平面测量壁(5)之间。

4.根据权利要求1所述的测角辐射计，其特征在于，所述测角辐射计配置成使光学辐射源(2)在测量操作过程中围绕所述第一轴(31)和垂直于所述第一轴(31)的第二轴(32)枢转，其中，所述光学辐射源被转动到各个角度位置以使得光学辐射源(2)的光分布中所希望的空间角度照射平面测量壁(5)并且通过光学单元(8)由相机(7)的传感器芯片(100)检测到。

5.根据权利要求1所述的测角辐射计，其特征在于平面测量壁(5)是白色、漫反射的表面。

6.一种用于取决于方向地测量具有至少一个传感器(1)的光学辐射源(2)的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的方法，其中所述光学辐射源(2)在测量操作过程中绕第一轴(31)和绕垂直于第一轴的第二轴(32)枢转，并且所述至少一个传感器(1)被布置成位置固定且不可移动，并且其中，所述光学辐射源(2)在测量过程中被移动，使得所述至少一个传感器(1)记录表示至少大致在围绕所述光学辐射源(2)的辐射重心的球形表面上的照明技术或辐射测量学特征量的测量值，

其特征在于，

设置有至少两个传感器(1)，所述至少两个传感器由二维传感器芯片(100)的像素形成，所述传感器在测量过程中同时提供测量值，

其中，来自所述光学辐射源(2)的光通过漫反射的平面测量壁(5)反射，并且反射光由相机(7)的光学单元(8)成像到所述二维传感器芯片(100)上，

其中，来自光学辐射源(2)的光通过起反射作用的所述平面测量壁(5)中的开口(51)附加地直接照亮另一传感器(1')并且由该传感器(1')检测到的信号用于校准传感器芯片(100)。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述光学辐射源(2)枢转到各个角度位置，使得光分布的所希望的空间角度区域(56)照射平面测量壁(5)并由所述传感器芯片(100)通过光学单元(8)检测到。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，与测角辐射计的不同位置相关联的空间角度区域(56)的光分布在平面测量壁(5)上反射之后由传感器芯片(100)检测到，并组合而形成与更大的空间角度区域相关联的光分布。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述光在所述光学辐射源(2)和所述至少两个传感器(1)之间通过，穿过至少一个成像透镜(9)或至少一个成像透镜系统。

10.根据权利要求6所述的方法，其特征在于

-照明技术或辐射测量特征量的输出辐射方向使用平面系统描述，该系统的平面在穿过光学辐射源的辐射重心延伸的交线上交叉，并且使用表示所观察的平面内的辐射方向的辐射角度来描述，其中

-为照明技术或辐射测量学特征量的每个测量值指定所述平面系统的特定平面以及在该平面内的特定辐射角度，并且

-所述至少两个传感器(1)为所述平面系统的一个或多个平面同时提供测量值。