[发明专利]在触发碎裂能量的同时迅速扫描宽四极RF窗

权利要求书

1.一种用于通过用碎裂参数的不同值将每一前体离子隔离窗碎裂两次或多于两次而在串级质谱术数据独立采集DIA实验中提供前体离子信息的系统，所述系统包括：

离子源，其经配置以接收样本且将所述样本离子化，从而产生离子束；

串级质谱仪，其经配置以接收所述离子束且分析所述离子束的m/z范围；及

处理器，其与所述串级质谱仪进行通信，所述处理器进行以下操作：

(a)将所述m/z范围划分成两个或多于两个前体离子隔离窗，

(b)选择碎裂参数的两个或多于两个值，其中所述碎裂参数的所述两个或多于两个值中的第一值具有使所述离子束的最小量离子碎裂的水平，且所述碎裂参数的所述两个或多于两个值中的一或多个额外值具有使所述离子束的所述离子产生越来越多的碎裂的越来越具侵攻性的水平，

(c)针对所述两个或多于两个前体离子隔离窗中的每一前体离子隔离窗，指令所述串级质谱仪使用所述每一前体离子隔离窗且使用所述第一值来执行对所述离子束的选择及碎裂，且指令所述串级质谱仪使用所述每一前体离子隔离窗且使用所述一或多个额外值来执行对所述离子束的一或多个额外选择及碎裂，从而针对所述碎裂参数的所述两个或多于两个值中的每一值产生产物离子光谱，及

(d)组合所述两个或多于两个前体离子隔离窗的使用所述碎裂参数的相同值产生的产物离子光谱，从而针对所述碎裂参数的所述两个或多于两个值中的每一者产生整个m/z范围的经组合产物离子光谱。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述碎裂参数包括由所述串级质谱仪执行的碰撞诱导解离方法的碰撞能量。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述碎裂参数包括由所述串级质谱仪执行的射频RF解离方法的RF激励。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述碎裂参数包括由所述串级质谱仪执行的电子捕获解离ECD方法的电子能量。

5.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括随时间将所述样本提供到所述离子源的样本引入装置，且其中所述处理器进一步执行步骤(c)及(d)一或多个额外次数，从而针对所述碎裂参数的所述两个或多于两个值中的每一者产生一时间系列的经组合产物离子光谱。

6.根据权利要求5所述的系统，其中所述处理器进一步在所述第一值的所述时间系列的经组合产物离子光谱中计算每一完整前体离子的完整前体离子强度迹线，从而产生一或多个完整前体离子强度迹线，且在所述一或多个额外值的一时间系列的经组合产物离子光谱中计算至少一个产物离子的至少一个产物离子强度迹线。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述处理器进一步将所述至少一个产物离子强度迹线与所述一或多个完整前体离子强度迹线进行比较，且如果所述至少一个产物离子强度迹线与所述一或多个完整前体离子强度迹线的完整前体离子迹线相关，那么将所述完整前体离子迹线的完整前体离子识别为产生所述至少一个产物离子强度迹线的所述至少一个产物离子。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述处理器通过以下操作而确定所述至少一个产物离子强度迹线与所述一或多个完整前体离子强度迹线的完整前体离子迹线相关：

确定所述至少一个产物离子强度迹线的顶点是否与所述一或多个完整前体离子强度迹线的完整前体离子迹线的顶点在相同时间出现。

9.根据权利要求7所述的系统，其中所述处理器进一步通过以下操作而确定所述至少一个产物离子强度迹线与所述一或多个完整前体离子强度迹线的完整前体离子迹线相关：

确定所述至少一个产物离子强度迹线的形状是否与所述一或多个完整前体离子强度迹线的完整前体离子迹线的形状相同。