[发明专利]酞菁系配位化合物

说明书

提供一种通过涂布于金属面，能够提高(i)相对于金属的紧密贴合性、和(ii)耐久性的酞菁系配位化合物。上述酞菁系配位化合物的特征在于由下述通式(1)表示。上述通式(1)中的M为Cu、Fe、Ti、V、Ni、Pd、Pt、Pb、Si、Bi、Cd、La、Tb、Ce、Be、Mg、Co、Ru、Mn、Cr、Mo、Sn以及Zn中的任一个，M可以存在，也可以不存在，上述通式(1)中的R₁～R₄在酞菁部位存在一个以上即可，包括由下述通式组(A)的通式中的任一个表示的离子，各自可以相同也可以不同，上述通式组(A)中的R₅～R₇为氢或者烃基，各自可以相同也可以不同，上述R₁～R₄还包括由下述通式组(B)的通式中的任一个表示的抗衡离子，上述通式组(B)中的X为由SO₃^‑、COO^‑、PO₃H^‑、PO₃^2‑、N⁺R₈R₉R₁₀、PhN⁺R₈R₉R₁₀表示的离子、由下述通式(2)表示的离子、以及由下述结构式(1)表示的离子中的任一个，上述通式组(B)、N⁺R₈R₉R₁₀、PhN⁺R₈R₉R₁₀、以及通式(2)中的R₈～R₁₀为氢或者烃基，各自可以相同也可以不同。

对相关申请的交叉引用

本申请主张日本专利申请2015-032138号(2015年2月20日申请)的优先权，为了参照将该申请的全部公开内容援引于此。

技术领域

本发明涉及酞菁系配位化合物。

背景技术

在设置于触摸面板等显示面板的显示面的透明导电膜、进而配置在显示面板的显示面侧的信息输入装置的透明导电膜等要求透光性的透明导电膜中，使用铟锡氧化物(ITO)这样的金属氧化物。然而，使用了金属氧化物的透明导电膜由于在真空环境下被溅射成膜，所以制造成本耗费大，并且存在因弯曲和/或挠曲等变形而易于产生破裂和/或剥离的情况。

因此，研究了能够利用涂布和/或印刷进行成膜，并且使用了对弯曲和/或挠曲抗性也高的金属纳米线的透明导电膜，来代替使用了金属氧化物的透明导电膜。使用了金属纳米线的透明导电膜作为不使用属于稀有金属的铟的下一代的透明导电膜备受瞩目(例如，参照专利文献1、专利文献2)。

然而，上述专利文献1中记载的透明导电膜呈红色，存在透明性受损的情况。

并且，在将使用了金属纳米线的透明导电膜设置于显示面板的显示面侧的情况下，由于外部光在金属纳米线的表面漫反射，所以产生显示面板的黑色显示被淡淡地明亮地显示出来，即所谓的黑浮(black floating)现象。黑浮现象是导致由对比度降低带来的显示特性的劣化的重要因素。

以防止这样的黑浮现象的产生为目的，提出了使用不易产生光的漫反射的金(Au)的金纳米管。金纳米管的形成是，首先，将易于漫反射光的银纳米线用作模板，对其进行镀金。之后，对用作模板的银纳米线部分进行蚀刻或氧化而变换为金纳米管(例如，参照专利文献3)。

另外，提出了并用金属纳米线和二级导电性介质(CNT(碳纳米管)、导电性聚合物、ITO等)，来防止光散射的方法(例如，参照专利文献2)。

然而，对于利用前者的方法得到的金纳米管，不仅作为模板使用的银纳米线作为材料会变得浪费，而且还需要用于实施镀金的金属材料。因此，材料费变高，并且存在因工序也变得繁琐而制造成本变高这样的问题。