[发明专利]抗反射膜及其制造方法

权利要求书

1.一种抗反射膜，包括：

硬涂层；和

低折射层，所述低折射层形成在所述硬涂层的一个表面上并且包含粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，

其中全部中空无机纳米颗粒的至少30体积％存在于在所述低折射层的厚度方向上比全部实心无机纳米颗粒距所述硬涂层与所述低折射层之间的界面更远的距离处，

全部实心无机纳米颗粒的至少70体积％存在于距所述硬涂层与所述低折射层之间的界面对应于所述低折射层的整个厚度的30％的距离内，

并且

全部中空无机纳米颗粒的至少70体积％存在于距所述硬涂层与所述低折射层之间的界面超过所述低折射层的整个厚度的30％的距离处。

2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中：

所述实心无机纳米颗粒与所述中空无机纳米颗粒的密度差为0.30g/cm³至3.00g/cm³。

3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中：

所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积％的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积％的第二层，

所述第一层比所述第二层更靠近所述硬涂层与所述低折射层之间的界面。

4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中：

所述抗反射膜在380nm至780nm的可见光波长区域中的平均反射率为0.7％或更小。

5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中：

所述实心无机纳米颗粒和所述中空无机纳米颗粒各自在其表面上包含选自以下的一者或更多者反应性官能团：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基。

6.根据权利要求2所述的抗反射膜，其中：

所述实心无机纳米颗粒的密度为2.00g/cm³至5.00g/cm³，以及

所述中空无机纳米颗粒的密度为1.50g/cm³至3.50g/cm³。

7.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中：

包含在所述低折射层中的所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物的(共聚)聚合物与含有光反应性官能团的含氟化合物的交联(共聚)聚合物。

8.根据权利要求7所述的抗反射膜，其中：

基于100重量份的所述可光聚合化合物的(共聚)聚合物，所述低折射层包含10重量份至400重量份的所述中空无机纳米颗粒和10重量份至400重量份的所述实心无机纳米颗粒。

9.根据权利要求7所述的抗反射膜，其中：

所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物。

10.根据权利要求7所述的抗反射膜，其中：

所述含有光反应性官能团的含氟化合物的重均分子量分别为2,000g/mol至200,000g/mol。

11.根据权利要求7所述的抗反射膜，其中：

基于100重量份的所述可光聚合化合物的(共聚)聚合物，所述粘合剂树脂包含20重量份至300重量份的所述含有光反应性官能团的含氟化合物。

12.根据权利要求7所述的抗反射膜，其中：

包含在所述含氟化合物中的所述光反应性官能团是选自以下的一者或更多者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基。