[发明专利]抗反射膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680009519.3 申请日: 2016-11-03
公开(公告)号: CN107360718B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 边真锡;金宪;金芙敬;张锡勋;张影来 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: B32B27/08 分类号: B32B27/08;B32B7/022;B32B33/00;G02B1/10;G02B5/30
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 郑毅;赵丹
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 无机纳米颗粒 抗反射膜 树脂组合物 低折射层 硬涂层 中空 粘合剂树脂 制造 光反应性官能团 可光聚合化合物 施加 含氟化合物 光引发剂 聚合物 光固化 共聚
【说明书】:

本文公开了抗反射膜和抗反射膜的制造方法,所述抗反射膜包括:硬涂层;和低折射层,所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散在粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒,其中靠近硬涂层与低折射层之间的界面的实心无机纳米颗粒的量大于中空无机纳米颗粒的量;所述抗反射膜的制造方法包括:将用于形成低折射层的树脂组合物施加在硬涂层上并在35℃至100℃的温度下干燥所施加的树脂组合物,所述树脂组合物包含可光聚合化合物或其(共聚)聚合物、含有光反应性官能团的含氟化合物、光引发剂、中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒;以及使经干燥的树脂组合物光固化。

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年11月4日在韩国知识产权局提交的韩国专利申 请第10-2015-0154591号和于2016年10月31日在韩国知识产权局提交 的韩国专利申请第10-2016-0142886号的优先权和权益,其全部内容通过 引用并入本文。

本发明涉及抗反射膜及其制造方法。更具体地,本发明涉及这样的抗 反射膜及其制造方法:其能够具有低反射率和高透光率,同时实现高的耐 刮擦性和防污性,并且增加显示装置的屏幕的清晰度。

背景技术

通常,将抗反射膜安装在平板显示装置例如等离子体显示板(PDP)、 液晶显示器(LCD)等上,以使从外部入射的光的反射最小化。

作为用于使光的反射最小化的方法,存在以下方法:将填料如无机细 颗粒分散在树脂中并将该树脂涂覆在基底膜上以赋予不均匀性的方法 (即,抗眩光(AG)涂覆方法),在基底膜上形成具有不同折射率的多个 层以使用光干涉的方法(即,抗反射(AR)涂覆方法),或者这些方法的 组合等。

其中,在AG涂覆方法的情况下,反射光的绝对量等于一般的硬涂覆 方法,但是通过使用光由不均匀性引起的散射来减少进入眼睛的光量可以 获得低反射效果。然而,由于在AG涂覆方法中,屏幕的清晰度由于表面 不均匀性而劣化,所以最近,对AR涂覆方法进行了许多研究。

作为使用AR涂覆方法的膜,具有其中硬涂层(高折射率层)、低反 射涂层等层合在基底膜上的多层结构的膜已经商业化。然而,在如上所述 的形成多个层的方法中,由于形成各个层的过程是分开进行的,所以层间 紧密粘合(界面粘合)可能较弱,使得耐刮擦性可能劣化。

此外,为了提高包括在抗反射膜中的低折射层的耐刮擦性,在过去主 要进行了添加具有纳米尺寸的各种颗粒(例如,二氧化硅颗粒、氧化铝颗 粒、沸石颗粒等)的方法。然而,在使用具有纳米尺寸的颗粒的情况下, 难以在降低低折射层的反射率的同时提高耐刮擦性,并且低折射层的表面 的防污性由于具有纳米尺寸的颗粒而显著劣化。

因此,已经进行了用于减少从外部入射的光的绝对反射量并且提高表 面的防污性和耐刮擦性的许多研究,但是尽管已进行了这些研究,抗反射 膜的物理特性也没有得到充分改善。

发明内容

技术问题

本发明的一个目的是提供具有以下优点的抗反射膜:具有低反射率和 高透光率,同时实现高的耐刮擦性和防污性,以及增加显示装置的屏幕的 清晰度。

本发明的另一目的是提供具有以下优点的抗反射膜的制造方法:提供 具有上述特性的抗反射膜。

技术方案

提供了一种抗反射膜,其包括:硬涂层;和低折射层,所述低折射层 形成在所述硬涂层的一个表面上并且包含粘合剂树脂以及分散在所述粘 合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒,其中全部实心无机 纳米颗粒的至少70体积%存在于距所述硬涂层与所述低折射层之间的界 面对应于所述低折射层的整个厚度的50%的距离内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学,未经株式会社LG化学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680009519.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top