[发明专利]沸石膜结构体在审
申请号: | 201680013539.8 | 申请日: | 2016-03-22 |
公开(公告)号: | CN107427783A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 木下直人;柴田宏之 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D69/10;B01D69/12;B32B19/04;C01B37/02 |
代理公司: | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙)11432 | 代理人: | 王轶,郑雪娜 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 膜结构 | ||
1.一种沸石膜结构体,其包括:
支撑体;
沸石膜,该沸石膜形成在所述支撑体的表面上;以及
保护膜,该保护膜形成在所述沸石膜的表面上,且由有机无机杂化二氧化硅或碳构成。
2.根据权利要求1所述的沸石膜结构体,其中,
所述保护膜的平均厚度为172nm以下。
3.根据权利要求1或2所述的沸石膜结构体,其中,
所述保护膜的平均厚度为44nm以上。
4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的沸石膜结构体,其中,
所述沸石膜的所述表面的表面粗糙度Ra为1.74μm以下。
5.根据权利要求4所述的沸石膜结构体,其中,
所述支撑体的所述表面的表面粗糙度Ra为2.13μm以下。
6.根据权利要求1~5中的任意一项所述的沸石膜结构体,其中,
所述沸石膜的所述表面的表面粗糙度Ra为0.28μm以上。
7.根据权利要求6所述的沸石膜结构体,其中,
所述支撑体的所述表面的表面粗糙度Ra为0.29μm以上。
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